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[吉致动态]半导体抛光耗材：硅片精抛液吉致电子Wafer Fine Polish Slurry[ 2026-04-28 15:40 ]: 在半导体硅片制造与再生晶圆加工中，精抛环节直接决定晶圆表面粗糙度、洁净度及整体良率，而抛光液的综合性能更是制约高端硅片制程品质的核心关键。吉致电子依托成熟配方研发与严谨工艺测试，自主研发生产的硅片精抛液，凭借优异性能、稳定批次品质及高适配性，成为半导体衬底精密抛光的国产优选解决方案，全面适配高端硅片加工需求，助力半导体国产替代进程。吉致电子硅片精抛液核心优势突出，全方位满足产业生产需求：一是超优抛光品质，筑牢制程根基。产品采用优质纳米二氧化硅溶胶（SiO2）为磨料，经严格筛选与粒径调控，避免磨料团聚产生大颗粒，杜绝; http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpghcgpj_1.html

[吉致动态]国际第三代半导体年度盛会--吉致电子半导体抛光耗材受关注[ 2024-01-12 14:10 ]: 吉致电子受邀出席第九届国际第三代半导体论坛（IFWS）暨第二十届中国国际半导体照明论坛（SSLCHINA），斩获大会颁发的“品牌力量”奖项。该奖项由IFWS&SSLCHINA组委会颁发，是为发展第三代半导体和半导体照明产业所属领域的优秀企业和优势品牌所创立，获得该奖项是对吉致电子在半导体照明产业领域出色表现的高度认可。后摩尔时代，发展正当时的第三代半导体产业迎来发展机遇。半导体业继往开来进入新的发展阶段，论坛期间氛围热烈，学术报告、行业; http://www.jzdz-wx.com/Article/gjdsdbdtnd_1.html

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