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[吉致动态]比钻石更硬核！揭秘吉致电子单晶金刚石研磨液密码[ 2025-03-25 10:37 ]: 在半导体、光学元件、精密模具等高端制造领域，材料的超精密加工对表面质量的要求近乎苛刻。传统的研磨抛光技术难以满足纳米级精度需求，而单晶金刚石研磨液凭借其超高的硬度、稳定的切削性能和优异的表面处理能力，成为超精密加工的核心耗材。吉致电子作为精密研磨材料的领先供应商，提供高纯度、高一致性的单晶金刚石研磨液，助力客户突破加工极限。1. 单晶金刚石研磨液的核心组成单晶金刚石研磨液是一种由高纯度单晶金刚石微粉、分散剂、稳定剂和液体载体（去离子水或油基）组成的精密抛光材料。其核心优势在于：单晶金刚石微粉：莫氏硬度10，是目前自; http://www.jzdz-wx.com/Article/bzsgyhjmjz_1.html

[常见问题]什么是SIC碳化硅衬底的常规双面磨工艺[ 2024-03-07 17:22 ]: 碳化硅SIC研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层，修复切割产生的变形。由于SiC的高硬度的特性，CM{研磨过程中必须使用高硬度的磨料（如碳化硼或金刚石粉）研磨SiC切片的晶体表面。碳化硅衬底常规的CMP研磨工艺一般分为粗磨和精磨。SiC衬底常规双面磨工艺双面磨工艺又称DMP工艺，是目前大部分国内碳化硅衬底厂商规模化生产的工艺方案，对碳化硅进行双面研磨(粗磨/精磨)达到一定的表面平整度和光洁度。①粗磨：采用铸铁盘+单晶金刚石研磨液双面研磨的方式该工艺可以有效的去除线割产生的损伤层，修复面型，; http://www.jzdz-wx.com/Article/smssicthgc_1.html

[吉致动态]吉致电子--单晶金刚石研磨液的用途[ 2023-10-20 13:47 ]: 吉致电子单晶金刚石研磨液是由单晶金刚石微粉、水/油等液体配制而成的CMP研磨液，可有效提高切削力和抛光效率。单晶金刚石硬度大、抗磨损性能好，具有良好的导热性能和耐高温性能，能够在高温高压环境下保持稳定的物理和化学性质。吉致电子生产的单晶金刚石研磨液 / 单晶金刚石抛光液 / 单晶金刚石悬浮液产品可广泛应用于半导体、集成电路、光学仪器，精密陶瓷，硬质合金，LED显示屏等多种领域。溶剂一般分为水基，油基，润滑基，酒精基。金刚石研磨液粒度：1μm，3μm，6μm，9μm （也可定制0.25μm; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzdjjgsy_1.html

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