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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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[行业资讯]吉致电子无蜡吸附垫革新晶圆制造工艺:零残留·高平坦·更稳定[ 2025-06-19 17:02 ]
在半导体晶圆抛光领域传统蜡模装夹工艺存在效率低、良率受限等痛点,而半导体真空吸附垫Template技术的创新和使用正在推动行业变革。吉致电子通过定制化半导体晶圆抛光的CMP(化学机械平坦化)无蜡吸附垫、真空吸附板设计,可为半导体领域客户提升生产效率。吉致电子真空吸附垫/CMP抛光模版通过「无蜡革命」,为硅片、晶圆、SiC、蓝宝石衬底、光学玻璃等材料提供高精度抛光解决方案。传统蜡粘工艺的核心痛点效率瓶颈蜡模需加热/冷却固化,单次装夹耗时30分钟以上,影响产能。残留蜡清洗工序复杂,增加非生产
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