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[行业资讯]纳米抛光液---吉致电子氧化硅slurry的应用及特点[ 2024-10-10 16:56 ]

吉致电子纳米级氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型CMP抛光产品。粒度均一的SiO2磨料颗粒在CMP研磨过程中分散均匀，能达到快速抛光的目的且不会对加工件造成物理损伤。纳米级硅溶胶抛光液不易腐蚀设备，提高了使用的安全性。制备工艺和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面划伤少。吉致电子氧化硅slurry粒径分布可控，根据不同的抛光需求，生产出不同粒径大小的纳米氧化硅抛光液，粒径范围通常在 5-100nm 之间。以氧化硅为磨料的纳米抛

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[行业资讯]纳米氧化硅抛光液的特点[ 2022-11-18 16:10 ]

纳米二氧化硅抛光液由高纯纳米氧化硅SiO2等多种复合材料配置而成，通过电解法或离子交换法制备成纳米抛光液，硅抛光液磨料分散性好，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP抛光材料。广泛应用于金属或半导体电子封装抛光工艺中。吉致电子硅抛光液，CMP抛光slurry应用范围：1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。2、用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多

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[吉致动态]纳米抛光液---纳米氧化铝抛光液[ 2022-08-31 17:24 ]

氧化铝粉体具有多个晶体形态，常见的有Y，θ，α，δ等相。其中α相的氧化铝为其他相的氧化铝高温转变而成。作为抛光液用的α氧化铝颗粒，根据抛光(粗抛/精抛)的要求不同，a -Al2O3平均颗粒大小可以从100nm到500/1000nm而不同,但不管是何种抛光，氧化铝的硬团聚体，或超大颗粒越少越好，这些超大颗粒会在抛光过程中给晶体表面造成划伤，导致整个抛光过程失败。所以，在制备以a-Al2O3为主体的抛光液过程中，如何控制超大颗粒是一关键。吉致电子氧化铝研磨液/氧化铝精抛液，颗粒经表面改性处理，按特殊化学配方充分混合制备

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[吉致动态]吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点[ 2022-08-19 15:29 ]

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:1，可提高工件抛光速率和平坦度加工质量，氧化硅抛光液采用高纯纳米二氧化硅（SiO2）磨料及多种复合材料配置而成，不会对工件造成物理损伤，抛光率高。2，利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。3，硅溶胶纯度高，抛光液不腐蚀设备，无毒无害使用安全性能高。4，可实现高平坦化加工。5，有效减少抛光后的表面划痕，降低表面粗糙度。吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒，得到均匀分散的纳米抛光液，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP技术用的

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[行业资讯]吉致电子---金刚石抛光液的作用是什么？[ 2022-06-14 17:03 ]

钻石抛光液又叫金刚石抛光液，由人造金刚石微粉通过特殊工艺制备而成，由于其切削力强，速率快，划痕少，所以广泛应用于硬质工件的抛磨和加工，下面就由吉致电子小编給大家详细介绍一下吉致钻石抛光液的特点和使用吧。金刚石抛光液包括多晶、单晶和纳米抛光液。金刚石抛光液由优质金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样，对应不同的研磨抛光工艺和工件，适用性强。吉致的金刚石研磨液产品分散性好，粒度均匀，规格齐全，质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨抛光。聚晶金刚石抛光液（又叫多晶钻石抛光液）利用聚晶金刚石的特性，在磨削抛光过程中能保持

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吉致电子抛光材料源头厂家
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