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[行业资讯]吉致电子：高稳定聚氨酯抛光垫定制专家[ 2025-04-09 10:32 ]

吉致电子聚氨酯抛光垫选用优质基础材质，历经多道复杂且精密的工艺打造。聚氨酯抛光垫具备卓越的高弹性、高耐磨性、高平坦度以及高稳定性等特性，专为金属、光学玻璃、陶瓷、半导体芯片等对表面精度要求极高的精密部件抛光作业量身定制，能够充分应对并满足严苛的工业级抛光需求。吉致电子聚氨酯抛光垫的核心优势①聚氨酯高效抛光性能氧化铈抛光垫：其工作原理基于氧化铈微粒与被加工材料表面的化学机械作用，可显著提升材料去除速率，在对材料去除率有较高要求的场景中，能极大地缩短抛光时间，提升整体生产效率。氧化锆抛光垫：氧化锆材料凭借其独特的微观结

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[吉致动态]吉致电子解析：磷化铟衬底怎么抛光研磨[ 2025-03-07 15:22 ]

磷化铟（InP）作为Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的典型代表，凭借其高电子迁移率、宽禁带宽度和良好的光电性能，在光通信器件、激光器和探测器等领域占据关键地位。其精密加工要求严苛，尤其是表面粗糙度需达到纳米级（Ra < 0.1nm），传统机械研磨易导致晶格损伤，化学机械抛光（CMP）技术则成为实现原子级平整表面的核心工艺。吉致电子将系统介绍InP磷化铟衬底CMP抛光从粗磨到精抛的流程及控制要点。一、Inp磷化铟抛光准备工作材料：准备好磷化铟工件，确保其表面无明显损伤、杂质。同时准备吉致电子CMP研磨垫，如聚氨酯抛光垫，其

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[吉致动态]吉致电子CMP Pad化学机械抛光垫[ 2024-12-27 18:27 ]

吉致电子专注研发、设计、测试与生产制造CMP耗材，CMP PAD化学机械抛光垫用于半导体制造、平面显示器、光学玻璃、各类晶圆衬底材料、高精密陶瓷件、金属与硬盘基板的研磨抛光工艺。吉致电子CMP抛光垫采用精密涂布技术和科技材料能有效提升客户制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致抛光垫团队从事高分子材料合成、发泡技术与复合材料研制已有多年经验，积累深厚的材料制造和研发基础.抛光垫产品因其特殊纤维材质，耐用、耐磨、耐酸碱，价比高。PAD产品包括且不限于：聚氨酯抛光垫、阻尼布精抛垫、复合抛光垫、绒面抛光垫、无纺布抛光

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[常见问题]CMP抛光垫的种类及特点[ 2024-07-26 16:42 ]

Cmp抛光垫种类可按材质结构主要有：聚合物抛光垫、无纺布抛光垫、带绒毛结构的无纺布抛光垫、复合型抛光垫。①聚合物抛光垫聚合物抛光垫的主要成分是发泡体固化聚氨酯，聚氨酯抛光垫具有抗撕裂强度高、耐磨性强、耐酸碱腐蚀性优异的特点，是最常用的抛光垫材料之一。图聚氨酯抛光垫微观结构在抛光过程中，聚氨酯抛光垫表面微孔可以软化和使抛光垫表面粗糙化，并且能够将磨料颗粒保持在抛光液中，可以实现高效的平坦化加工。聚氨酯抛光垫表面的沟槽有利于抛光残渣的排出。但聚氨酯抛光垫硬度过高，抛光过程中变形小，加工过程中容

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[行业资讯]半导体先进制程PAD抛光垫国产替代进行中[ 2023-06-23 11:09 ]

国内半导体制造的崛起加速推动了半导体材料的国产化进程。在政策、资金以及市场需求的带动下，我国集成电路产业迅猛发展，带动上游材料需求增长。先进制程CMP抛光液及CMP抛光垫用量大增，国产替代进行中。 CMP抛光垫（CMP PAD）一般分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫、阻尼布抛光垫等，高精密研磨抛光垫应用于半导体制作、平面显示器、玻璃光学、各类晶圆衬底、高精密金属已经硬盘基板等产业，目前主要型号有 IC1000、IC1400、IC2000、SUBA等，其中IC1000和SUBA是用得最广的。&n

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[行业资讯]吉致资讯第147期聚氨酯抛光垫产品特点简介[ 2018-03-16 11:54 ]

1、根据镜片的磨耗度的不同选择相对应的肖氏硬度的聚氨酯抛光皮，肖氏硬度越大越硬。2、聚氨酯抛光皮填充物的不同聚氨酯抛光皮里的填充物（氧化铈、氧化锆）的添加是微量加入，填充物的种类不决定所用的抛光粉，例如：氧化铈可以与含有氧化锆填充剂的抛光皮配合使用或是相反。含有氧化铈的抛光皮——主要表现为提高抛光效率；含有氧化锆的抛光皮——主要表现为提高光洁度；不含填充剂的抛光皮——主要表现为抛光过程中的光圈稳定。 3、聚氨酯抛光皮发泡孔的不同抛光皮发泡孔多利

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[行业资讯]吉致资讯第118期：抛光垫性能对抛光液的影响[ 2017-10-11 10:32 ]

抛光垫将抛光液中的磨粒输送到工件表面，使凸起的部分平坦化，是输送抛光液的关键部件。抛光垫的剪切模量及弹性模量、粗糙度和可压缩性等机械特性对工件的平整度及去除率有着重要的影响。抛光垫的硬度对抛光均匀性有明显的影响，硬垫可获得较好的晶片内均匀性和较好的平面度，软垫可改善芯片内均匀性，通过组合使用硬垫及软垫，来获得良好的WID和 WIW，如在圆片及其固定装置间加一层弹性背膜，就可满足刚性及弹性的双重要求。抛光垫按其组成的材质，可分为聚氨酯抛光垫、复合抛光垫、阻尼布抛光垫，抛光垫的表面粗糙度及多孔性将影响工件实际参与加工的

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吉致电子抛光材料源头厂家
25年专注CMP抛光材料研发与生产

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