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[常见问题]化学机械抛光(CMP)如何优化陶瓷覆铜板平坦化?[ 2025-05-23 16:32 ]
陶瓷覆铜板(Ceramic Copper-Clad Laminate,简称陶瓷基覆铜板或DBC/DPC)是一种高性能电子基板材料,广泛应用于高功率、高温、高频等苛刻环境下的电子器件中。它由陶瓷基板和覆铜层通过特殊工艺结合而成,兼具陶瓷的优异性能和金属铜的导电特性。陶瓷覆铜板CMP研磨液是一种专用于化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)工艺的特殊液体,用于对陶瓷覆铜板(如DBC、DPC等)表面进行高精度平坦化处理。其核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同效应,去除铜层和陶
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