- [常见问题]吉致电子LN铌酸锂抛光液，CMP精密加工好助手[ 2024-11-06 17:17 ]
- 铌酸锂化学式为LiNbO3简称LN，具有良好的非线性光学性质，可用作光波导材料，或用于制作中低频声表滤波器、大功率耐高温超声换能器等。铌酸锂掺杂技术如今被广泛应用。Mg:LN提高抗激光损伤阈值，优化在非线性光学领域的应用；Nd:Mg:LN晶体可实现自倍频效应；Fe:LN晶体可用于光学体全息存储。CMP研磨液抛光液能平坦化铌酸锂晶圆表面凹陷，晶圆快速达到理想粗糙度。 8寸铌酸锂晶圆在光电子器件和集成电路领域有着广泛的应用。相较于较小尺寸的晶圆，8英寸铌酸锂晶圆具有明显的优势。首先，它拥有更大
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/article-09551734141_1.html
相关搜索
- 无相关搜索
吉致热门资讯
-
吉致电子CMP精抛垫的作用有哪些 -
喜迎“六一”欢度“端午”----吉致电子员工团建活动
-
吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用
-
氧化硅抛光液的结晶问题
-
镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用
-
什么是金刚石研磨液
-
吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点
-
吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些？
-
纳米抛光液---纳米氧化铝抛光液
-
相聚吉致 欢度中秋---2022年吉致电子科技中秋团建活动
-
吉致电子 射频滤波器抛光液slurry厂家
-
吉致电子CMP不锈钢抛光液的特点
-
吉致电子浅槽隔离抛光液怎么用
-
不锈钢抛光液的CMP镜面抛光
-
吉致电子--不锈钢工件的研磨抛光工序
-
吉致电子Slurry抛光浆料--阻挡层抛光液
-
硅溶胶研磨液--精密工件镜面抛光效果秘密
-
2023吉致电子春节放假通知
-
吉致电子常见的CMP研磨液
-
CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点
