吉致电子LN铌酸锂抛光液，CMP精密加工好助手

  铌酸锂化学式为LiNbO₃简称LN，具有良好的非线性光学性质，可用作光波导材料，或用于制作中低频声表滤波器、大功率耐高温超声换能器等。铌酸锂掺杂技术如今被广泛应用。Mg:LN提高抗激光损伤阈值，优化在非线性光学领域的应用；Nd:Mg:LN晶体可实现自倍频效应；Fe:LN晶体可用于光学体全息存储。CMP研磨液抛光液能平坦化铌酸锂晶圆表面凹陷，晶圆快速达到理想粗糙度。

  8寸铌酸锂晶圆在光电子器件和集成电路领域有着广泛的应用。相较于较小尺寸的晶圆，8英寸铌酸锂晶圆具有明显的优势。首先，它拥有更大的面积，能够容纳更多的器件和集成电路，提高生产效率和产量。其次，尺寸更大的晶圆可以实现更高的器件密度，提升集成度和器件性能。此外，8英寸铌酸锂晶圆具有更好的一致性，减少了制造过程中的变异性，提高了产品的可靠性和一致性。吉致电子为半导体行业/铌酸锂晶体晶圆制备的化学机械抛光液/LN Slurry组合浆料，适用于LiNbO3精密/超精密领域的平坦化高效加工。设计满足铌酸锂（LiNbO3）晶圆提高材料去除率，降低表面粗糙度，获得超光滑表面。

  在光电子器件制造中对表面精度要求极高，CMP研磨抛光后的铌酸锂晶圆获得的低表面粗糙度可以有效提高光的传输效率，减少散射损耗，提升器件的性能和可靠性。在集成光路中，低损耗和高折射率对比度的光波导是构建大规模光子集成芯片的最基本单元，而超光滑的铌酸锂表面能够为光波导提供更好的性能支持。

吉致电子铌酸锂抛光液特点——

1.用于大规模制造LiNbO₃晶片的高性能CMP抛光浆料。

2.经特殊工艺合成，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

3.实现高去除率，无亚表面损伤，并提供出色的稳定性。

4.PH、粒径、稳定离子等可以根据要求定制。

5.适合与各种吉致电子抛光垫配合抛光使用。

无锡吉致电子科技有限公司