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[吉致动态]吉致电子陶瓷覆铜板研磨液[ 2024-09-24 17:46 ]
陶瓷覆铜板 CMP 抛光液的定义,为半导体行业电子封装使用的研磨液及抛光液,适用于陶瓷覆铜板粗抛及精抛。提高陶瓷工件表面去除率和平坦化性能,提供镜面效果,解决电镀铜层厚度及均匀性、表面粗糙度等抛光难题。吉致电子陶瓷覆铜板研磨液具有悬浮性好不易沉淀,颗粒分散均匀不团聚,软硬度适中避免划伤,抛磨过程中提高抛光速度和质量,分散性好降低微划伤概率提高精度,无粉尘产生环保安全,可定制化满足不同需求。吉致电子CMP研磨液的分类与成分:根据抛光对象分为不同类别,成分包括研磨颗粒、PH 值调节剂、氧化剂、分散剂以及表面活性剂,各成
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