精密制造新标杆:吉致电子蓝宝石研磨液技术解析
蓝宝石研磨液Sapphire Slurry,也称为蓝宝石抛光液,是专为蓝宝石材料精密加工而设计的高性能抛光液。产品广泛应用于蓝宝石衬底、外延片、光学窗口、蓝宝石晶圆(Wafer)的减薄和抛光工艺,能够满足高平坦度、高表面质量的加工需求。
吉致电子蓝宝石抛光液由高纯度磨粒、复合分散剂和分散介质精心配制而成,具有以下显著优势:
1.高稳定性:悬浮体系稳定,不易沉降或结晶,确保抛光过程的一致性;
2.高效抛光:抛光速度快,显著提升加工效率;
3.精密加工:采用纳米SiO2粒子作为磨料,可在高效研磨的同时避免对工件表面造成物理损伤;
4.低污染性:低金属成分设计,有效防止加工过程中对工件的污染;
5.高切削效率:在保持高效磨削的同时,减少划伤风险,确保工件表面光洁度。
吉致电子蓝宝石研磨液凭借其优异的颗粒均匀性和通用性,可广泛应用于以下领域:
1.蓝宝石衬底的研磨与减薄;
2.光学晶体、硬质玻璃和晶体的精密加工;
3.超硬陶瓷、合金材料的抛光;
4.磁头、硬盘、芯片等高科技元件的表面处理。
吉致电子研磨液/抛光液的工艺适配性高,通过化学机械抛光(CMP)工艺与蓝宝石专用Slurry的结合,抛光液能够实现蓝宝石晶圆的高平坦度加工,满足半导体、光电等领域对表面质量的严苛要求。在精密加工领域,选择可靠的抛光液供应商至关重要。吉致电子凭借多年的技术积累和产品创新,为客户提供高性能、高稳定性的抛光解决方案,助您轻松解决抛光难题,提升产品竞争力。吉致电子——您值得信赖的抛光合作伙伴!
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
邮编:214000
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 精密制造新标杆:吉致电子蓝宝石研磨液技术解析
- 突破技术壁垒:国产抛光垫替代Suba800的崛起之路
- CMP抛光液:精密光学镜头制造的幕后英雄
- 无蜡吸附垫:精密制造的卓越之选
- 碳化硅衬底CMP工艺面临的挑战与解决方案
- 半导体CMP--碳化硅衬底无蜡吸附垫的特点
- 吉致电子SiC碳化硅研磨垫国产替代
- 吉致电子---碲锌镉衬底用什么抛光液?
- 吉致电子CMP抛光垫:从粗到精,体验高效抛光
- 金刚石悬浮液在半导体领域的应用
最新资讯文章
您的浏览历史
