无蜡吸附垫:精密制造的卓越之选
无蜡吸附垫的设计充分考虑了不同行业、不同工艺的实际需求,具有高度的通用性和灵活性。提高吸附稳定性,还能起到良好的排屑作用,防止加工过程中产生的碎屑堆积在吸附垫表面,影响加工精度和吸附效果。
以下是吉致电子无蜡吸附垫的介绍:
组合式无蜡抛光吸附垫
结构:包括基布、吸附结构和粘贴结构。吸附结构由聚氨酯吸附层和环形气腔组成,聚氨酯吸附层粘贴在基布上,环形气腔设置在聚氨酯吸附层上,起到吸附固定且揭开时减少吸附力的作用;粘贴结构包括无残留双面胶和离型纸,无残留双面胶粘贴在基布上,离型纸粘贴在无残留双面胶上 。
优点:使用无残留双面胶,揭开后无任何残留,减少清理工作。聚氨酯吸附层上的圆形环形气腔,方便空气进入,使吸附力减小到最低,从而可轻松将硅片取下,避免损坏 。
双层无蜡抛光吸附垫
结构:设有粘胶层和带孔吸附研磨层,粘胶层材质为PU树脂、硅胶或热融胶,与带孔吸附研磨层固接后,通过粘胶层与连接板紧密粘接。带孔吸附研磨层内设有圆柱槽,圆柱槽内设有抛光溶液,抛光晶体置于抛光溶液中 。
优点: 避免了对抛光晶体进行涂蜡的操作,提高了抛光效率,同时可以提高抛光成品合格率 。
可控晶圆厚度的无蜡抛光吸附垫
结构:包括吸附垫本体,其底面设有多个采用抛光微孔膜材料的吸附区,吸附区呈环形阵列设置。吸附垫本体上设有多个圆形通孔,圆形通孔内设置控制组件,用于控制抛光后晶片厚度 。
优点:通过设置控制组件,可对抛光后的晶片厚度进行控制,避免晶片过度抛光,同时无需频繁测量晶片厚度,操作更加方便 。
光学晶体片抛光用抗晶圆穿插的无蜡垫
结构:包括衬底盘、吸附垫和防护垫。衬底盘上设置有晶片放置槽,晶片放置槽内设置用于吸附晶片的吸附垫,吸附垫通过防护垫卡在衬底盘上 。
优点:通过在晶片放置槽内增设防护垫,可对晶圆进行较好地防护,能有效抗晶片穿插,提升无蜡垫使用效果 。
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 半导体CMP--碳化硅衬底无蜡吸附垫的特点
- 吉致电子SiC碳化硅研磨垫国产替代
- 吉致电子---碲锌镉衬底用什么抛光液?
- 吉致电子CMP抛光垫:从粗到精,体验高效抛光
- 金刚石悬浮液在半导体领域的应用
- 吉致电子---Si硅片抛光液,为半导体护航
- 半导体芯片研磨液与CMP工艺:铸就芯片制造的基石
- 电子3C行业的好帮手---苹果logo研磨液
- 解锁高效,硬质合金CMP抛光液来袭
- 吉致电子---磷化铟InP晶圆抛光液的市场现状
最新资讯文章
您的浏览历史
