- [吉致动态]吉致电子---常见的半导体研磨液有哪些[ 2023-07-31 17:23 ]
- 吉致电子半导体研磨液有哪些?常见的CMP研磨液有氧化铝研磨液,金刚石研磨液,蓝宝石研磨液。分别用于磨削工件、半导体制程、光学玻璃晶圆等工件加工。 其中金刚石研磨液,它的硬度非常高,性能稳定切削力强,被广泛应用于led工业、半导体产业、光学玻璃和宝石加工业、机械加工业等不同行业中。研磨液是半导体加工生产过程中的一项非常重要工艺,它主要是通过CMP研磨液混配磨料的方式对半导体表面进行精密加工,达到平坦度。研磨液是影响半导体表面工作质量的重要经济因素。吉致电子用经验和技术服务每一位客户,有CMP
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- [行业资讯]蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液[ 2023-05-09 17:07 ]
- 蓝宝石平面视窗、精密质量蓝宝石视窗、高精度质量蓝宝石视窗是为各种光学、机械和电子应用提供了强度、耐磨性、化学惰性适用于光学和激光应用,这些蓝宝石窗口设计用于关键的光学和激光应用。蓝宝石窗口的制程中关键步骤需要用到CMP研磨抛光工艺,蓝宝石研磨液适合用于大批量蓝宝石窗口的生产应用。 蓝宝石抛光液以高纯度氧化硅原料制备而成,具有悬浮性好,不易结晶,易清洗等特点。用于蓝宝石工件的镜面研磨,研磨后的工件表面粗糙度低,无划伤,表面质量度高。吉致电子生产研发的蓝宝石窗口CMP抛光研磨液,性能稳
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- [常见问题]蓝宝石晶圆怎么研磨--sapphire wafer抛光液实现高平坦度表面[ 2023-04-26 11:10 ]
- 吉致电子蓝宝石研磨液sapphire slurry又称为蓝宝石抛光液。专业用于蓝宝石衬底、外延片、窗口、蓝宝石wafer的减薄和抛光。蓝宝石抛光液由纯度高的磨粒、复合分散剂和分散介质组成,具有稳定性高、不沉降不易结晶、抛光速度快的优点。 通过CMP工艺搭配蓝宝石专用slurry可实现蓝宝石晶圆的高平坦度加工,吉致电子抛光液利用纳米SiO2粒子研磨表面,不会对加工件造成物理损伤,达到精密加工。蓝宝石CMP抛光液的低金属的成分,可以有效防止产品受到污染。 &n
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- [行业资讯]吉致电子蓝宝石研磨液CMP减薄工艺[ 2022-11-30 17:01 ]
- 蓝宝石研磨液/抛光液,是通过化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing ) 用于蓝宝石衬底、窗口片的研磨和减薄,达到减薄尺寸、表面平坦化效果。 吉致电子蓝宝石研磨液由优质聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性,在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。 吉致电子蓝宝石研磨液、CMP抛光液可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研
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