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[常见问题]吉致电子LN铌酸锂抛光液，CMP精密加工好助手[ 2024-11-06 17:17 ]: 铌酸锂化学式为LiNbO3简称LN，具有良好的非线性光学性质，可用作光波导材料，或用于制作中低频声表滤波器、大功率耐高温超声换能器等。铌酸锂掺杂技术如今被广泛应用。Mg:LN提高抗激光损伤阈值，优化在非线性光学领域的应用；Nd:Mg:LN晶体可实现自倍频效应；Fe:LN晶体可用于光学体全息存储。CMP研磨液抛光液能平坦化铌酸锂晶圆表面凹陷，晶圆快速达到理想粗糙度。 8寸铌酸锂晶圆在光电子器件和集成电路领域有着广泛的应用。相较于较小尺寸的晶圆，8英寸铌酸锂晶圆具有明显的优势。首先，它拥有更大; http://www.jzdz-wx.com/Article/article-09551734141_1.html

[吉致动态]吉致电子铌酸锂抛光液的重要作用[ 2024-10-03 12:06 ]: 吉致电子铌酸锂晶体化学机械抛光液在多个领域展现出广泛的用途。铌酸锂在半导体行业中是晶圆制备过程中的关键材料。通过CMP化学机械抛光，能够有效提高晶圆的表面平整度和光洁度，为后续的半导体器件制造提供优质的基础。例如，在集成电路的生产中，铌酸锂晶体化学机械抛光液能够精确地去除工件表面的微小凸起和杂质，达到表面平坦化效果，确保后期芯片制造的性能和可靠性。铌酸锂cmp抛光液还能为光学表面提供高光洁度抛光，因其具有优良的电光、声光、压电等性能，在光电子领域有着广泛的应用。经过CMP抛光液处理后的铌酸锂光学元件，表面粗糙度极低; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdznslpgy_1.html

[吉致动态]铌酸锂晶体怎么抛光？[ 2024-03-08 11:16 ]: 铌酸锂晶体抛光，用吉致电子CMP铌酸锂抛光液是有效方法铌酸锂晶体(分子式 LiNbO3简称 LN)是一种具有铁电、压电、热电、电光、声电和光折变效应等多种性质的功能材料，是目前公认为光电子时代"光学硅"的主要候选材料之一。它在超声器件、光开关、光通讯调制器、二次谐波发生和光参量振荡器等方面获得广泛应用。铌酸锂晶片的加工质量和精度直接影响其器件的性能，因此铌酸锂的应用要求晶片表面超光滑、无缺陷、无变质层。目前,有关铌酸锂晶片的加工特性及其超光滑表面加工技术的研; http://www.jzdz-wx.com/Article/nsljtzmpg_1.html

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