搜索资讯 - 无锡吉致电子科技有限公司

热门搜索： 硅晶圆slurry抛光液氧化硅抛光液集成电路抛光液 CMP化学机械抛光液slurry 化学机械抛光液

福吉电子采用精密技术，提供超高质量产品

当前位置：首页 » 全站搜索 » 搜索：阻尼布精抛垫

[吉致动态]吉致电子CMP Pad化学机械抛光垫[ 2024-12-27 18:27 ]: 吉致电子专注研发、设计、测试与生产制造CMP耗材，CMP PAD化学机械抛光垫用于半导体制造、平面显示器、光学玻璃、各类晶圆衬底材料、高精密陶瓷件、金属与硬盘基板的研磨抛光工艺。吉致电子CMP抛光垫采用精密涂布技术和科技材料能有效提升客户制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致抛光垫团队从事高分子材料合成、发泡技术与复合材料研制已有多年经验，积累深厚的材料制造和研发基础.抛光垫产品因其特殊纤维材质，耐用、耐磨、耐酸碱，价比高。PAD产品包括且不限于：聚氨酯抛光垫、阻尼布精抛垫、复合抛光垫、绒面抛光垫、无纺布抛光; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzcmppad_1.html

[应用案例]吉致电子金属抛光液---Apple Logo镜面抛光液[ 2022-11-11 17:21 ]: Apple Logo非常有质感，其闪闪发光的镜面效果展现出苹果品牌的魅力与审美。一个完美苹果LOGO的诞生需要经过化学机械抛光工艺的抛磨，CMP工艺抛出的光洁度更高，效率更稳定，保证良品率的同时也为品牌塑造更好的形象。Apple Logo采用的是6063铝合金材质/不锈钢材质，进行CNC切割成LOGO形状，然后通过平面抛光机进行抛光，采用复合型粗抛垫和CMP抛光液进行粗抛平整化，最后通过采用阻尼布精抛垫加精抛液抛磨，达到完美的镜面效果。吉致电子为苹果LOGO定制的金属抛光液，工艺为粗磨，中磨，精抛。抛光速率快，光洁; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzjspgya_1.html

相关搜索

无相关搜索

记录总数：0 | 页数：0

吉致热门资讯