吉致电子非晶锆抛光液有哪些(锆基非晶合金CMP工艺)
非晶锆(Amorphous Zirconium),也常被称为锆基非晶合金或锆基大块金属玻璃(Zr-based Bulk Metallic Glass, Zr-BMG),是一种通过特殊工艺使锆(Zr)与其他金属元素(如铜、镍、铝、钛等)形成的无定形晶体结构的金属材料,核心特征是原子排列不具备传统晶体材料的长程有序性,呈现“玻璃态”的微观结构。
由于其“高强度、高耐磨、高耐蚀”的综合性能,非晶锆已在多个高要求领域落地应用:
医疗领域
•口腔修复:非晶锆的硬度与牙釉质接近,耐口腔酸碱腐蚀,且生物相容性优异(无镍元素析出风险),可用于制作牙冠、牙桥;
•医疗器械:如手术镊子、微创器械的尖端部件,利用其高硬度和耐磨性延长使用寿命。
精密制造与电子领域
•电子元件:如半导体设备中的耐磨部件、连接器插针,利用其高硬度和无磁性避免干扰;
•精密模具:如微注塑模具的型腔,利用其优异的表面光洁度(抛光后Ra可低至纳米级)和耐磨性。
航空航天与特种领域
•轻量化结构件:如小型卫星的支架部件,利用其“高强度 - 低密度”特性(密度约6.0 g/cm³,低于钛合金的4.5 g/cm³)减重;
•耐腐蚀部件:如化工领域的微型阀门、传感器探头,耐受强酸强碱环境。
非晶锆/锆基非晶合金的表面处理CMP抛光通常可以使用以氧化铝、氧化铈或氧化锆为磨料的CMP Slurry抛光液(仅供参考)。
氧化铝抛光液:氧化铝具有较高的硬度,莫氏硬度达9级,能够有效地去除非晶锆表面的材料,实现较高的材料去除率。通过溶胶 - 凝胶技术可将氧化铝粒径控制在合适范围,如 γ 型氧化铝因粒度细至0.03μm,可用于精密抛光。同时,添加聚丙烯酸类分散剂等添加剂,可使悬浮液在pH值4-9范围内保持稳定,避免颗粒团聚产生划痕等缺陷。
氧化铈抛光液:氧化铈抛光液利用氧化铈颗粒的化学活性与机械研磨双重作用实现高精度抛光,具有高抛光效率、低表面损伤、优异的选择性等优势,可针对性抛光非晶锆而不损伤衬底,广泛应用于对表面平整度、洁净度要求极高的精密制造领域。
氧化锆抛光液:纳米氧化锆抛光液软硬度适中,不会划伤非晶锆表面,且其悬浮性好,不易沉淀,分散性好、乳液均一,能极大提高抛光效率和精度,适用于非晶锆等材料的精密抛光。
吉致电子专注于CMP抛光液的研发与生产,针对非晶锆的材料特性,推出了氧化铝、氧化铈和氧化锆三大类抛光液产品。该系列产品在磨料粒径控制、悬浮稳定性和抛光效率等方面均达到行业先进水平,可满足医疗、精密制造、电子及航空航天等领域的高标准抛光需求,为客户提供高效、稳定、优质的抛光解决方案,助力非晶锆在高价值领域的应用升级。
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
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