抛光垫的硬度、弹性模量、可压缩性等不同参数对抛光的效果有什么影响呢？接下来小福详细讲解下其中的影响

抛光垫的硬度决定了其保持形状精度的能力，不同材质的抛光垫具有不同的硬度。采用硬质抛光垫可获得较好工件表面的平面度，软质抛光垫可获得加工变质层和表面粗糙度都很小的抛光表面。如苹果手机屏幕就先采用硬度较高的吉致抛光垫进行平坦化，然后在采用较软的抛光垫

抛光垫硬度较低(肖氏硬度40—50D)时,材料去除率在全部速度范围遵循Preston方程;而抛光垫硬度较高(肖氏硬度50—70D)时,在高于某个速度以上材料去除率才遵循Preston方程。一般,抛光垫硬度高,材料去除率高,但抛光垫修整难度增大。分别用平绒布(毛40%的羊毛呢)、化纤无纺布(含聚氨酯)对钽酸锂晶片进行抛光发现,用质地较软的平绒布抛光综合效果好,用无纺布抛光,表面粗糙度低,但去除率也低。

1、弹性模量和剪切模量对抛光垫的加工性能有重要影响。弹性模量高的抛光垫承载能力强,剪切模量高则有利于抵抗旋转方向的力。用人造纤维垫、尼龙织布垫和耐腐蚀的化学纤维垫分别对铜进行抛光,发现用弹性模量和硬度高的尼龙布时,抛光效率高。材料去除率与抛光垫的剪切模量成反比。抛光垫的剪切模量受抛光过程的温度变化的影响。随抛光过程时间增加,保持弹性模量和剪切模量的能力强的抛光垫寿命长,抛光加工效果好。

2、抛光垫的可压缩性决定抛光过程抛光垫与工件表面的贴合程度,从而影响材料去除率和表面平坦化程度。抛光过程中,为了迅速去除工件表面凸起部分,抛光垫不应与工件表面低洼处贴合接触。可压缩性大的抛光垫与工件的贴合面积小,材料去除率高。但为了使抛光垫与工件间有较大范围的均匀接触,以保证工件抛光表面的均匀性,抛光垫的可压缩性不宜过大。IC1000(SUBAIV叠加型抛光垫中硬度、刚性高和可压缩性较高的顶层可有效去除工件表面凸起部分,但工件(晶片)的不均匀性增大;硬度、刚性和可压缩性较低的底层使抛光垫与工件间有较大范围的贴合接触,抛光后晶片不均匀性小，抛光垫材料的密度和表面形状等对抛光垫的终机械特性有重要影响。动态性能分析(DMA)抛光垫表面的槽方向对抛光垫的热性能和力学性能的影响的结果表明:当槽位于矩形测试样件的长轴方向时,抛光垫的刚性高。

抛光垫的密度、剪切模量、可压缩性与硬度、韧性、刚性、弹性模量等机械物理性能对抛光质量、材料去除率和抛光垫的寿命有着明显的影响。

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抛光垫种类：阻尼布抛光垫，聚氨酯抛光垫，白磨皮抛光垫

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