Oxide slurry 简称OX氧化物研磨液广泛用于氧化层材料的CMP抛光，抛光研磨后达到精准的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圆表面的氧化硅层或者上层金属与氧化硅之间的氧化硅层等。

  吉致电子OX氧化层抛光液适用于4-12英寸氧化硅镀膜片的氧化层抛光液。JEEZ半导体抛光液性能优点：①使用纯度高的纳米抛光磨料，拥有高速率加工能力;②slurry粒径大小均匀因此能获得无缺陷的表面；③ 吉致Oxide slurry 易清洗无残留，对后续工艺影响小。

  随着CMP材料国产化率快速提升，打破国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断成为趋势，Kemet研磨液、科密特研磨液、科密特抛光液、BAIKOWSKI抛光、misupco抛光、HydroShine抛光、contact lens polish等实现进口替代。

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