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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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抛光效果好分散性好、乳液均一,提高抛光精度
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安全环保不含任何硫、磷、氯添加剂,性能稳定
对环境无污染
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适用范围广金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷
等行业

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抛光速率高切削力快,10分钟抛光到位
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抛光效果好无桔皮、无麻点、无残留刀痕
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使用寿命长相当于国产抛光垫寿命的1.5倍
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适用范围广广泛适用于金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷等行业

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品牌企业,抛光行业前行者Brand enterprise, polishing industry leader
  • 19年倾心专注化学机械抛光耗材领域,行业经验丰富
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  • 高品质品牌,产品遍销各国,500强青睐品牌
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行业应用案例 / Industry Case

吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光

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不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。…

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氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光

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  氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度,原因有两个,一是氧化铝材质硬度较高,难…

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智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表后盖不锈钢抛光,需要用到CMP工艺的粗抛和精抛。搭配吉致电子抛光液和抛光垫使…

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碳化硅SiC抛光工艺

碳化硅SiC抛光工艺

  根据半导体行业工艺不同,CMP抛光液可分为介质层化学机械抛光液、阻挡层化学机…

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客户感言/ Testimonials

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

我司是做陶瓷覆铜板的,做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求,搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好,可以达到我司要求,为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品,我分享两张…

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解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

  陶瓷基板厂家陈总感言:  ——我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家,这些陶瓷板的硬度都是比较高的,我们对板子的RA表面粗糙度有要求,试过好多种抛光工艺,最…

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半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液

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  我们是广东一家半导体厂商,主要是做射频滤波器件的,制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。  近几年随着国家半导体事业的发展,很多物料遭受国外卡脖子限制,就算能买回来不仅…

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荣誉资质 / Honours

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走进吉致 / ABOUT US

吉致——我国化学机械抛光耗材优良企业!

吉致电子科技有限公司创始于1997年,现已经有19年的研发经验,专注于研发化学机械抛光耗材的领域,吉致主要研发两大类产品有“抛光垫”“抛光液”。产品广泛应用于金属,光电,半导体,陶瓷,硬盘面板显示器等需要精密研磨抛光的行业,广泛用于平面抛光领域。现已跟...

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吉致动态 / 行业资讯

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常见问题解答 /FAQ's

半导体铜CMP抛光液:铜互连工艺的核心材料
半导体铜化学机械抛光液(Copper CMP Slurry)是用于半导体制造过程中铜互连层化学机械抛光(CMP)的关键材料。随着半导体技术的...
硬盘玻璃的表面抛光主要用什么工艺?
    硬盘玻璃(也称为硬盘盘片基板或玻璃基板)是一种用于制造硬盘驱动器(HDD)盘片的特殊玻璃材料。它是硬盘...
铌酸锂/钽酸锂晶体抛光液成分及特点
铌酸锂(LiNbO?)和钽酸锂(LiTaO?)衬底的CMP(化学机械抛光)抛光液是一种专门设计用于实现高效材料去除和表面平整化的化学机械混合...
影响碳化硅衬底质量的重要工艺参数有哪些
碳化硅衬底提高加工速率和良品率的主要因素除了用对抛光液和抛光垫,在CMP抛光研磨过程的工艺参数也很重要:抛光压力:适当增加压力可以提高抛光效...
CMP抛光垫在化学机械平面研磨中的作用和效果
CMP抛光垫在化学机械平面研磨中的作用和效果通过调整抛光垫的密度和硬度,可以根据目标值(如镜面光洁度、精度等)进行优化,确保工件表面达到镜面...
半导体晶圆抛光垫的类型有哪些
一、CMP抛光垫概述CMP抛光垫是半导体晶圆制造中不可或缺的工具之一,主要用于半导体晶圆的抛光和平整处理。这些抛光垫CMP Pad采用优质材...
吉致电子---阻尼布抛光垫的功能和应用领域
吉致电子阻尼布抛光垫(精抛垫)的功能和应用领域有哪些?一、阻尼布抛光垫的功能优势①提高抛光质量:阻尼布抛光垫能够有效吸收抛光过程中的振动和冲...
黑色阻尼布抛光垫和白色阻尼布抛光垫的区别
白色阻尼布抛光垫和黑色阻尼布抛光垫的主要区别有哪些?黑白色阻尼布PAD的区别在于材质、用途和抛光效果。一、黑色/白色阻尼布材质和用途不同?白...