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吉致电子抛光材料 源头厂家
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抛光效果好分散性好、乳液均一,提高抛光精度
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安全环保不含任何硫、磷、氯添加剂,性能稳定
对环境无污染
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适用范围广金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷
等行业

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抛光速率高切削力快,10分钟抛光到位
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抛光效果好无桔皮、无麻点、无残留刀痕
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使用寿命长相当于国产抛光垫寿命的1.5倍
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适用范围广广泛适用于金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷等行业

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  • 25年倾心专注化学机械抛光耗材领域,行业经验丰富
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  • 高品质品牌,产品遍销各国,500强青睐品牌
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行业应用案例 / Industry Case

铝合金抛光液--铝质工件镜面抛光

铝合金抛光液--铝质工件镜面抛光

  铝合金地较软,硬度低,因此在加工成型过程中极易产生机械损伤造成划痕、磨损等…

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蓝宝石晶圆研磨抛光

蓝宝石晶圆研磨抛光

  蓝宝石晶片抛光的目的是将衬底的最终厚度减小到所需的目标值,具有优于+/- 2μ…

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金属抛光液---液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光

金属抛光液---液压元件回程盘/九孔盘CMP抛光

  液压系统的动力元件,是靠发动机或电动机驱动,从液压油箱中吸入油液,形成压力…

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半导体抛光液---陶瓷覆铜板DPC抛光液/DBC研磨液

半导体抛光液---陶瓷覆铜板DPC抛光液/DBC研磨液

吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液 通常有粗抛和精抛两道工艺,根据客户对…

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客户感言/ Testimonials

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

我司是做陶瓷覆铜板的,做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求,搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好,可以达到我司要求,为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品,我分享两张…

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解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

  陶瓷基板厂家陈总感言:  ——我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家,这些陶瓷板的硬度都是比较高的,我们对板子的RA表面粗糙度有要求,试过好多种抛光工艺,最…

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半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液

半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液

  我们是广东一家半导体厂商,主要是做射频滤波器件的,制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。  近几年随着国家半导体事业的发展,很多物料遭受国外卡脖子限制,就算能买回来不仅…

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走进吉致 / ABOUT US

吉致——我国化学机械抛光耗材优良企业!

吉致电子科技有限公司创始于1997年,现已经有19年的研发经验,专注于研发化学机械抛光耗材的领域,吉致主要研发两大类产品有“抛光垫”“抛光液”。产品广泛应用于金属,光电,半导体,陶瓷,硬盘面板显示器等需要精密研磨抛光的行业,广泛用于平面抛光领域。现已跟...

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吉致动态 / 行业资讯

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常见问题解答 /FAQ's

SiO2二氧化硅抛光液--硅溶胶粒径大小的区别
  二氧化硅抛光液SiO2 Slurry的制备中主要成分是纳米硅溶胶,一般分为大粒径硅溶胶和小粒径硅溶胶,那么怎么定义硅溶胶粒径大...
吉致电子陶瓷基板抛光液
  陶瓷基板材料的性能是陶瓷覆铜板性能的决定因素。目前,已应用作为陶瓷覆铜板基板材料共有三种陶瓷,分别是氧化铝陶瓷基板、氮化铝陶瓷...
SIC碳化硅的化学机械抛光工艺
  碳化硅Sic单晶生长之后是晶碇,而且具有表面缺陷,是没法直接用于外延的,这就需要加工。其中,滚圆把晶碇做成标准的圆柱体,线切割...
3C镜面抛光液用什么抛光液
  3C产品表面镜面抛光一般不采用电解抛光方式,而是选择CMP机械抛光工艺。SiO2抛光液用于3C工件的镜面抛光工艺,主要由纳米级...
吉致电子抛光液---温度对蓝宝石衬底CMP工艺的影响
  温度在蓝宝石衬底抛光中起着非常重要的作用, 它对CMP工艺的影响体现在抛光的各个环节。  在CMP工艺的化学反应过程...
蓝宝石抛光液--抛光磨料粒径、浓度及流速的影响
蓝宝石抛光液磨料粒径、浓度及流速的影响研究表明,在其它条件相同情况下, 随着蓝宝石抛光浆料浓度的增大, 抛光速率增大。对于粒径为80nm的研...
怎么解决硅溶胶抛光液结晶问题?
  二氧化硅抛光液在抛光过程中会出现结晶结块的现象,虽然不是大问题但如果处理不当,很可能会导致工件表面划伤甚至报废,那么怎么解决氧...
半导体抛光液是什么?
  半导体抛光液是什么?简单来说抛光液是通过化学机械反应,去除半导体工件表面的氧化层,达到光洁度和高平坦要求的化学液体。 ...