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[常见问题]二氧化硅抛光液与硅溶胶抛光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]

二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子高纯度CMP抛光产品。硅溶胶抛光液是以液体形式存在，直径为10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有机液体（分散介质）里的分散体系，粒子的形貌多为球形，适用于各类工件的镜面抛光，如金属、蓝宝石衬底、半导体、光学玻璃、精密电子元器件等的镜面抛光。本质上讲二氧化硅抛光液、硅溶胶抛光液都是一种东西，主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨抛光工艺中，机器通过压力泵把氧化硅抛光液输送到抛光槽内进行循环使用，

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[常见问题]如何解决氧化硅抛光液结晶问题[ 2023-05-09 17:17 ]

二氧化硅抛光液在抛光过程中会出现结晶结块的现象，虽然不是大问题但如果处理不当，很可能会导致工件表面划伤甚至报废，那么怎么解决氧化硅抛光液结晶问题呢？首先要了解硅溶胶抛光液的特点属性。二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经水解法离子、交换法制备成的一种高纯度低金属离子型产品。在水性环境中容易形成一种离子网状结构，而一脱离了水份，表面积迅速凝结形成结晶块，所以只要保持水分基本上是不会出现结晶现象。在实际CMP抛光工艺当中硅溶胶抛光液会一直在研磨盘转动、流动，结晶情况较少。因此氧化

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[吉致动态]CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点[ 2023-03-03 09:15 ]

通常化学机械研磨抛光工艺使用的CMP抛光液有金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铝抛光液及氧化铈抛光液（又称稀土抛光液）。纳米氧化铈为水性液体是吉致电子采用先进的分散工艺，将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中，形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性悬浮液。1.在抛光材料应用中，纳米CeO2抛光液相对硅溶胶，具有抛光划伤少、抛光速度快、易清洗良品率高等优势，且PH中性，使用寿命长、对抛光表面污染小，不易风干。2.在抛光军用红外激光硅片、异型硅、超薄硅片方面上，尤其是抛光超薄硅片，纳米氧化铈

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[常见问题]SiO2二氧化硅抛光液--硅溶胶粒径大小的区别[ 2023-01-06 16:24 ]

二氧化硅抛光液SiO2 Slurry的制备中主要成分是纳米硅溶胶，一般分为大粒径硅溶胶和小粒径硅溶胶，那么怎么定义硅溶胶粒径大小呢，吉致电子小编为您详解：大粒径硅溶胶与小粒径硅溶胶的定义 CMP精抛液中纳米硅溶胶颗粒的粒径为10-50nm，这个粒径范围的硅溶胶在市场上最常见，价格也相对便宜。如果对硅溶胶的纯度和pH值没有特殊要求，这种规格的硅溶胶价格相对比较便宜。大粒径硅溶胶:粒径＞50nm的硅溶胶一般可称为大粒径硅溶胶。吉致电子科技生产的大粒径硅溶胶最大可达150n

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[吉致动态]硅溶胶研磨液--精密工件镜面抛光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]

吉致电子硅溶胶研磨液/抛光液采用的是纳米级工艺，主要粒径在10-150nm。适用于各种材质工件的CMP表面镜面处理。以硅溶胶浆料为镜面的平面研磨的材料有半导体晶圆、光学玻璃、3C电子金属元件、蓝宝石衬底、LED显示屏等高精密元件。硅溶胶抛光液也称二氧化硅抛光液、氧化硅精抛液，SiO2是硅溶胶的化学名，适用范围已扩展到半导体产品的CMP抛光工艺中。 CMP抛光机可以将氧化硅研磨液循环引入磨盘，同时起到润滑和冷却的作用，通过抛光液和抛光垫组合抛磨可以使工件表面粗糙度达到0.2um

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[行业资讯]半导体抛光液--球型二氧化硅抛光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作为抛光液磨料，可大大提高产品的刚性、耐磨性、耐候性、抗冲击性、耐压性、抗拉性、阻燃性、良好的耐电弧绝缘性和耐紫外线辐射性。让我们来看看球型二氧化硅抛光液在电子芯片中的一些应用。精密研磨粉高纯球形硅粉用于光学器件和光电行业的精密研磨，特别适用于半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器(LCD、LED)玻璃基板、压电晶体、化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟)、磁性材料等半导体行业的研磨抛光。吉致电子用高纯球形硅粉制备成的超高纯硅溶胶抛光液slurry,

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[行业资讯]氧化铝抛光液在蓝宝石窗口中的应用[ 2022-09-23 15:36 ]

α -氧化铝(Al2O3)是众多氧化铝晶相中的最稳定的晶体相，它由其他晶相的氧化铝在高温下转变而成，是天然氧化物晶体中硬度最高的物质，硬度仅次于金刚石，远远大于二氧化硅溶胶颗粒，它是一种常用的抛光用磨料，被广泛用于许多硬质材料的抛光上。应用于CMP抛光液制备中，常用于在蓝宝石窗口的镜面抛光工艺中。 α -氧化铝(Al2O3)其实与蓝宝石是同一种物质或材料，材料结构中的原子排列模式完全相同，区别在于多晶体与单晶体。因此，从硬度上讲α-氧化铝(Al2O3)纳米粉体与蓝宝石晶体的硬度相当，可以用于

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[常见问题]什么是混合磨料抛光液？[ 2022-09-08 16:12 ]

混合磨料抛光液抛磨工件材质的升级和发展，对镜面要求越来越高，单一的磨料已无法满足CMP行业需求，研究人员开始尝试将不同粒径、不同形貌的一种或多种粒子组合到一起使用，开发出混合型抛光液。比如，在大粒径二氧化硅中加入小粒径的氧化硅，这样能明显提高抛光速率，且粒径相差越大提升率越高，这是因为在磨料在总的质量分数不变的条件下，增大小粒径磨料的占比能增加硅溶胶颗粒的总体数量，从而起到了提高抛光速率的作用。大量的研究成果表明，混合粒子的使用能够不同程度的提高化学机械抛光的速率，但是对抛光后表面粗糙度

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[常见问题]CMP抛光液中磨料对抛光效果的影响[ 2022-08-30 15:49 ]

磨料对抛光效果的影响在CMP抛光过程中磨料的作用是借助机械力，通过化学反应去除工件或晶圆表面形成的钝化膜，从而达到表面平坦化的目的。CMP抛光液常用的磨料有硅溶胶SiO2、氧化铝Al2O3、氧化铈CeO2、金刚石等。磨料的种类磨料的种类和材质决定了抛光液中微粒的硬度和粒径，从而影响拋光效果。抛光铝合金工件实验中相对于氧化铝抛光液Al2O3磨料，氧化硅抛光液SiO2磨料能获得较好的表面平整度、更少的表面划痕和更小的尺寸。原因是硅溶胶抛光液SiO2磨粒尺寸较小，拋光时磨料嵌入晶圆表面的深度较小。此外，通过优

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[常见问题]吉致电子硅溶胶抛光液的适用范围[ 2022-08-19 15:44 ]

硅溶胶抛光液又称氧化硅抛光液，通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经过钝化添加化学助剂和特殊工艺配制成的二氧化硅抛光浆料，广泛应用于集成电路半导体、特殊材料、金属工件、脆硬镜面的抛光。吉致电子25年CMP抛光液生产厂家，可根据客户不同工艺要求定制调整抛光浆料。氧化硅抛光液主要适用范围:1.可用于玻璃陶瓷的表面抛光。2.用于硅片和IC加工的粗抛和精抛，适用于大规模集成电路多层膜的平坦化。3.用于半导体元件的加工，如晶圆后道CMP清洗、光导摄像管、多晶化模块、平板显示器、微电机系统等。4.广泛应用于CMP化

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[吉致动态]吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点[ 2022-08-19 15:29 ]

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:1，可提高工件抛光速率和平坦度加工质量，氧化硅抛光液采用高纯纳米二氧化硅（SiO2）磨料及多种复合材料配置而成，不会对工件造成物理损伤，抛光率高。2，利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。3，硅溶胶纯度高，抛光液不腐蚀设备，无毒无害使用安全性能高。4，可实现高平坦化加工。5，有效减少抛光后的表面划痕，降低表面粗糙度。吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒，得到均匀分散的纳米抛光液，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP技术用的

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[吉致动态]镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]

镜面抛光液的主要材料是纳米二氧化硅磨料，制备成的液体浆料也称为硅溶胶抛光液。二氧化硅抛光液主要适用于抛光蓝宝石衬底、硅片、半导体、精密电子工件、晶体等产品。二氧化硅抛光浆料主要利用硅胶离子的高速抛光来达到表面处理的效果。二氧化硅是用纳米技术制成的。根据工件抛磨要求，可制备出不同切削力的产品达到镜面抛光。粒度控制可以有效减少电子工件上的污垢，使用纳米级硅胶颗粒加工工件，不会损伤工件，同时还能达到理想效果氧化硅抛光液需要配合精抛垫使用，精抛垫的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的众多孔隙可以将抛光液均匀地粘在其表面，与工件一起研

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[吉致动态]氧化硅抛光液的结晶问题[ 2022-08-12 13:25 ]

氧化硅抛光液长时间暴露在空气中，会使水分蒸发剩下固体氧化硅，造成硅晶体析出现象，称之为结晶。在实际应用时，硅溶胶抛光液会一直在磨盘内旋转循环及流动，结晶现象较少，但是高温或抛光液浓度没有配置好，会造成团聚，损伤工件，影响抛光效果。根据二氧化硅的特性，吉致电子抛光液厂家开发了抗结晶纳米二氧化硅抛光液，可以长时间保持氧化硅稳定液体状态。抛磨工件时易摇散且不团聚，化学性能稳定分散均匀，氧化硅精抛液抛光效率高，能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。外需要注意的是，氧化硅抛光液的

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[吉致动态]吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用[ 2022-08-04 14:54 ]

氧化硅抛光液的主要成分是高纯二氧化硅粉为，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光液。氧化硅溶液其实就是市面上的硅溶胶，当然是二次加工后的硅溶胶。因为硅溶胶是胶状的，不能直接研磨抛光。这项技术的主要应用是CMP半导体抛光。该技术在相对早期阶段就已存在，但市场应用范围较窄。氧化硅外观为乳白色悬浮液，呈碱性、中性、酸性。一般时间长了不会有沉淀，但是暴露在空气中很快就会结晶，有一定的腐蚀性。不锈钢工件在二氧化硅环境中容易生锈，抛光工件时应及时清洗掉二氧化硅溶液。&n

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[行业资讯]吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些？[ 2022-07-22 16:52 ]

抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺（如水解法）生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光，如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分，高分散配方，硬度高韧性好，有良好的高切削率，不易

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[行业资讯]CMP抛光技术在半导体和蓝宝石工件中的应用[ 2022-07-05 15:08 ]

蓝宝石衬底抛光用什么工艺可以实现？LED芯片又是怎么实现表面抛光平整的？吉致电子抛光液小编带您了解！目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和大规模

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[常见问题]氧化硅抛光液颜色的区别[ 2022-06-23 13:42 ]

吉致电子氧化硅抛光液的颜色有白色、乳白色和浅蓝色。硅溶胶抛光液颜色不同，其二氧化硅含量和用途也不一样。一般来说，二氧化硅抛光液颜色越蓝，浓度越高，粒度越细。浓度降低颜色就会变白，但是含量过低也会变白，这个要做浓度测试才能判断。二氧化硅抛光液的颜色不同，抛光工件的类型和粒度也不同。一般铸造铝合金的液态二氧化硅是蓝色的，且蓝色比较透明，这样的氧化硅粒径较小，因为铝合金镜面的光泽度要求更高。一般来说，工件光泽度要求越高，抛光耗材的粒度越小，这就决定了铝合金抛光液粒度要达纳米级别的原因。抛光不锈钢金属的氧化硅溶液一般为乳白

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[行业资讯]吉致资讯第119期蓝宝石化学机械抛光液作用研究[ 2017-10-13 16:44 ]

目前，蓝宝石基片是LED工业的首选衬底，蓝宝石表面的质量对LED器件的质量和性能有着非常重要的影响。因此，在生产蓝宝石基片时，对后一道工序抛光加工工序有很高的要求，要求蓝宝石基片的表面光滑、无缺陷，这也是蓝宝石衬底重要的制程。但是，由于蓝宝石晶体材料硬度高，脆性大，属于典型的难加工材料之一。因此，如何让抛光加工满足日益增长的严格要求长期以来备受关注。如今的化学机械抛光是一可实现全局平坦化的抛光方法，而且它的成本相对较低，也是迄今为止可以在蓝宝石生产中大规模应用的抛光方法。硅溶胶为纳米的二氧化硅颗粒，在水中

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25年专注CMP抛光材料研发与生产

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