混合磨料抛光液
  抛磨工件材质的升级和发展，对镜面要求越来越高，单一的磨料已无法满足CMP行业需求，研究人员开始尝试将不同粒径、不同形貌的一种或多种粒子组合到一起使用，开发出混合型抛光液。
比如混合氧化硅抛光液，在大粒径二氧化硅中加入小粒径的氧化硅，能明显提高抛光速率，且粒径相差越大提升率越高，这是因为磨料在总的质量分数不变的条件下，增大小粒径磨料的占比能增加硅溶胶颗粒的总体数量，从而起到了提高抛光速率的作用。

  大量的研究成果表明，混合粒子的使用能够不同程度的提高化学机械抛光的速率，但是对抛光后表面粗糙度的影响有好有坏，不同类型磨料混合使用对CMP抛光结果的影响规律仍有待进一步研究和优化。

  吉致电子科技作为25年抛光液生产厂家致力于研发生产各种CMP抛光液及耗材，产品主要应用于金属、半导体和超硬陶瓷领域，国家专利配方抛光液，可按客户要求定制并提供全程技术指导。

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