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带背胶的阻尼布抛光垫:CMP工艺的高效适配型辅助核心

文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2025-10-06 08:43【

在化学机械拋光CMP工艺中,带背胶的阻尼布抛光垫是连接抛光盘与工件的关键部件,凭借精准适配性与稳定性能,为CMP相关设备及工艺提供可靠支撑,带背胶的阻尼布抛光垫CMP PAD优点有以下4点:

一、精准适配,安装便捷

抛光垫背胶采用高粘接力特种胶(可选国产/3M),无需额外夹具就可直接紧密贴合抛光头或载台,避免高速旋转(10-150rpm)时“跑位”,保障抛光轨迹一致;

厚度公差≤±0.02mm,支持0.5~5mm多规格选择,还能按4/8/12英寸硅片等工件尺寸灵活裁剪,适配不同CMP设备需求;

撕膜即装,更换仅需5分钟内完成,背胶残留量低,无需额外清洁抛光头,大幅减少设备停机时间。

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二、适配工艺,保障洁净

阻尼布抛光垫能缓冲抛光冲击力、抑制设备颤振,让压力均匀传递,减少工件划痕、崩边,提升抛光均匀性;

基材(PET / 尼龙布,部分涂PTFE)与背胶均耐酸碱(适配pH2-4酸性、pH10-12碱性抛光液),不溶解不脱胶,单张可连续用50-200批次;

经除尘与防静电处理,高速摩擦不脱落纤维、不产生粉尘,避免污染半导体硅片等高精度工件。

三、吉致电子带背胶阻尼布抛光垫:性能稳定,良率可控

背胶耐30-50℃工艺温区,1-3个月使用周期内粘性不衰减、不老化;基材弹性恢复率≥90%,反复受压无永久形变,保障每批次工件厚度偏差≤±0.1μm;

基材与背胶热膨胀系数匹配(10-20ppm/℃),温度波动下不收缩膨胀,避免边缘起翘,适配CMP设备24小时连续运行需求。

四、抛光垫厂家:成本优化,适配量产

阻尼布抛光垫作为耗材型产品,单张成本可控,无需因局部损坏更换整个抛光头组件;吉致电子CMP抛光垫厂家支持小批量定制,既能满足半导体、光学、电子等不同领域抛光需求(如硅片、蓝宝石衬底、陶瓷基板),又能降低综合使用成本。

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