弹性高分子Chuck Pad真空吸附垫:半导体硅片精密加工耗材
传统晶圆加工多采用石蜡贴合固定,不仅需要额外的上蜡、脱蜡、溶剂清洗工序,流程繁琐、生产效率低,且极易出现蜡残留、有机物污染等问题,影响晶圆洁净度与后续制程品质。吉致电子弹性高分子Chuck Pad采用真空微粘吸附原理,可完全替代传统蜡贴工艺,实现无蜡贴合、无尘加工。

加工后晶圆可轻松剥离,无任何胶体、有机物残留,无需复杂清洗工序,大幅精简生产流程、提升加工效率。同时产品采用半导体级低析出配方,低VOC、无重金属离子析出,不产生颗粒污染物,完全适配无尘室生产标准,从根源上规避晶圆污染风险,保障器件性能稳定。适用吉致电子真空吸附垫实现无蜡洁净工艺,简化制程杜绝污染。
众所周知在半导体制程中,传统硬质卡盘易造成超薄晶圆压痕、脆片崩裂,而传统蜡贴工艺存在残留污染、工序繁琐等痛点。弹性高分子Chuck Pad作为适配精密制程的核心耗材,凭借柔性适配、洁净无残留、防护性强等核心优势,成为半导体衬底精密加工的优选方案,广泛适配硅片、碳化硅、蓝宝石、铌酸锂、光学玻璃等各类脆性衬底加工场景。
吉致电子templat吸附垫、Chuck Pad可根据不同制程场景定制材质与结构:高分子柔性材质耐磨抗造,适配晶圆研磨、划片场景;氟橡胶耐酸碱、耐化学腐蚀,适配CMP抛光、药液加工工况。真空吸附垫材质有绒面、光面两种规格,易剥离,适配超薄片、精密检测场景,全方位覆盖各类精密加工需求。

作为轻量化耗材,templat吸附垫、Chuck Pad产品安装、更换便捷,可有效缩短设备停机维护时间,提升生产效率。相较于陶瓷,高分子Chuck Pad采购成本更低,同时可隔离晶圆与硬质卡盘的直接接触,保护设备卡盘盘面,减少卡盘磨损、修整频次,大幅降低设备维护与生产综合成本。
为什么CMP抛光头必须用这种结构的无蜡垫?
①吸附稳定性更强:环形流道可以形成多级真空腔,即使局部有轻微泄漏(比如晶圆边缘破损、垫体微磨损),也不会立刻导致整片晶圆吸附失效,降低破片风险。
②抛光均匀性更好:径向 + 环形的复合流道,能让晶圆背面的压力分布更接近理想状态,减少中心和边缘的抛光速率差,提升整片晶圆的平坦度(WIWNU)。
③清洁维护更方便:沟槽结构可以通过反向吹气/冲水快速排出残留的浆料碎屑,相比平面垫更不容易藏污纳垢,延长垫的使用寿命,也减少了颗粒污染风险。
④适配性广:这种结构可以适配大多数主流CMP机台的抛光头,只需要调整流道尺寸和位置即可,通用性很强。
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
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