铜化学机械抛光液---什么是TSV技术？

TSV全称为：Through -Silicon-Via，中文译为：硅通孔技术。

它是通过在芯片和芯片之间、晶圆和晶圆之间制作垂直导通；TSV技术通过铜、钨、多晶硅等导电物质的填充，实现硅通孔的垂直电气互连，实现芯片之间互连的最新技术。

TSV也是继线键合（Wire Bonding）、TAB和倒装芯片（FC）之后的第四代封装技术。

TSV的显著优势：TSV可以通过垂直互连减小互联长度，减小信号延迟，降低电容/电感，实现芯片间的低功耗，高速通讯，增加宽带和实现器件集成的小型化。

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