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[抛光液] 半导体硅片抛光液 Si Wafer Slurry[ 2024-01-05 ]

: 吉致电子·硅片抛光液·半导体晶圆cmp抛光液·Si Slurry
产品名称：硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点：用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛，减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtgppgysi.html

[抛光液] 金属钼抛光液钼片CMP抛光[ 2023-12-01 ]

: 吉致电子·钼片抛光液·金属钼cmp抛光液
产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
产品特点：吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片CMP加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/jsmpgympcm.html

[抛光液] 氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液[ 2023-03-10 ]

: 产品名称：氧化层抛光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料类型：半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径：纳米级SiO2[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/yhcpgyoxid.html

[抛光液] 3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液[ 2023-02-23 ]

: 产品名称：3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
磨料类型：半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/3dxjfztsvc.html

[抛光液] 晶圆抛光液--磷化铟Inp Slurry CMP抛光液[ 2022-12-30 ]

: 产品名称：磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/jypgylhyin.html

[抛光液] 射频滤波器抛光液半导体抛光液 CMP抛光液[ 2022-09-29 ]

: 产品名称：射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：10-150nm/全粒径可定制[查看]; http://www.jzdz-wx.com/Products/splbqpgybd.html

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