在半导体制造过程中，CMP化学机械平坦化抛光液（Slurry）是晶圆表面平坦化的关键材料，直接影响芯片的性能和良率。长期以来，这一市场被海外巨头垄断，主要供应商如Cabot、杜邦、富士美等。一旦断供可能导致生产线停滞，严重影响芯片交付。面对这一挑战，吉致电子作为国内CMP抛光耗材供应商，实现中高端CMP抛光液的自主研发与量产，为国产半导体产业链的自主可控提供坚实保障。

国产CMP抛光液的六大核心优势

1. 显著成本优势，降低企业采购压力

价格竞争力强：国产替代CMP抛光液比进口产品低20%-30%，大幅降低半导体厂商的材料成本。

本地化供应高效：减少关税、物流和仓储费用，缩短交货周期，提升供应链响应速度。

2. 保障供应链安全，减少“卡脖子”风险

在中美科技竞争背景下，国产CMP抛光液可有效降低对Cabot、杜邦等国际巨头的依赖，保障产业链安全。本土化生产还能快速响应客户需求，灵活调整配方，提供定制化解决方案，避免国际物流或贸易政策的影响。

3. 技术持续突破，适配先进制程需求

14nm及以下制程突破：国产CMP抛光液已能满足逻辑芯片、存储芯片（如3D NAND）的高精度要求。

国产半导体CMP抛光液Slurry材料创新，提升性能：

①采用高纯度磨料（如硅溶胶、氧化铈），减少晶圆表面缺陷。

②优化添加剂（氧化剂、腐蚀抑制剂等），提高抛光效率，降低金属污染。

③环保型产品：部分抛光液无磷、低COD，更符合绿色制造趋势。

4. 政策支持与产业协同，加速国产替代

吉致电子积极响应国家战略，受益于“十四五”规划、国家集成电路产业投资基金（大基金）等政策支持，并与半导体机构及学院深度合作，推动CMP抛光液技术迭代与产业化落地。

5. 定制化服务，满足多样化需求

吉致电子可根据客户需求调整配方，提供铜抛光、钨抛光、介质层抛光等差异化解决方案，并提供快速的技术支持，助力客户优化制程工艺。

6. 市场应用不断拓展

吉致电子CMP抛光液不仅用于传统半导体制造，还逐步渗透至：先进封装（TSV、Fan-Out）第三代半导体（SiC/GaN晶圆抛光）显示面板（OLED、Mini LED 平坦化）

匠心铸就品质，创新引领未来

作为国内电子材料CMP耗材供应商，吉致电子专注于CMP抛光液（Slurry）和抛光垫（PAD）的研发与生产，致力于提供更高性能、更高稳定性的CMP抛光解决方案，助力国产半导体产业链实现自主可控。

吉致电子半导体CMP抛光液Slurry主要产品：

①铜抛光液：适用于逻辑芯片制造，高平坦化效率，低缺陷率。

②钨抛光液：专为存储芯片优化，高选择性，减少碟形坑。

③介质层抛光液：适配先进制程，提高芯片良率。

随着半导体国产化进程加速，吉致电子将持续优化CMP抛光液性能，推动技术升级，为客户提供更可靠、更高效的解决方案，选择吉致电子，选择更安全、更高效的国产CMP抛光液！