钽酸锂LiTaO3作为非线性光学晶体、电光晶体、压电晶体、声光晶体和双折射晶体等在现今以光技术产业为中心的IT 产业中得到了广泛的应用。 晶体材料的结构与其光学性能息息相关，钽酸锂LT晶体是一种优良的多功能材料，具有很高的应用价值。LiTaO3晶体以它的化学性能稳定高（不溶与水），居里点高于600℃，不易出现退极化现象，介电损耗低，探测率优值高的优良特性，成为热释电红外探测器的应用材料。

  经过CMP半导体研磨液抛光的LT晶片广泛用于谐振器、滤波器、换能器等电子通讯器件的制造，尤其以它良好的机电耦合、温度系数等综合性能而被用于制造高频声表面波器件，并应用在手机、对讲机、卫星通讯、航空航天等许多高端通讯领域。

  光学级钽酸锂晶片(Optical Grade LiTaO3Wafer)：CMP双面抛光 S/D  20/10 TTV: ＜10μm BOW:＜30μm

常规双抛片 单抛片 Y36° Y42°
(1)晶片表面光洁度：Ra＜10
(2)晶片背面：客户可自定粗糙度指标

 吉致电子CMP半导体研磨液，适用LT/LN钽酸锂/铌酸锂晶圆的抛光和平坦化，是一种高性能的CMP Slurry光学研磨抛光浆料，具有高的移除率，研磨后可获得较高的平整度、较低的缺陷率和较高的生产率。

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