随着存储行业迭代升级，HDD硬盘逐步推进玻璃磁盘替代传统铝基盘片。石英玻璃介质的光存储磁盘，对表面质量提出极高标准：无划伤、无凹坑橘皮缺陷、粗糙度Ra≤0.1nm，同时兼顾抛光速率与抛光液循环复用能力。吉致电子针对HDD玻璃磁盘开发整套CMP精抛耗材与工艺方案，适配石英玻璃磁盘的量产抛光需求。

一、HDD玻璃磁盘抛光核心技术难点

石英玻璃磁盘作为硬盘存储载体，表面任何微小划伤、麻点、橘皮、凹坑，都会直接造成磁头读写故障。

行业核心指标要求：

①表面外观：盘面完整，无划伤、凹坑、橘皮缺陷；

②表面粗糙度：Ra目标0.1nm级别，实现超光滑镜面；

③抛光速率：材料去除率30-60nm/min，平衡加工效率与表面品质；

④经济性：抛光液支持循环使用，降低量产生产成本。

玻璃磁盘抛光不同于普通光学玻璃抛光，硬盘盘片对微观亚表面损伤、残留颗粒管控严苛，抛光液、抛光垫、抛光工艺参数三者需要精准匹配。

二、整套CMP抛光工艺方案

2.1基础设备固定工艺参数

吉致电子完成全流程实验验证，针对内径2.5cm，外径9.7cm的石英玻璃磁盘，标准工艺参数如下：

吉致电子HDD玻璃磁盘CMP抛光耗材推荐

JZ-S3020玻璃磁盘CMP精抛液

专为HDD石英玻璃磁盘开发的硅溶胶基抛光液，适配硬盘盘片超精抛光场景。

性能优势：可实现极低表面粗糙度，抑制划伤产生，抛光去除速率稳定，支持循环复用，适配量产工艺；

使用要点：

①使用前充分摇晃均匀；

②原液建议1:1稀释使用；

③抛光全过程持续搅拌，防止磨料沉降；

④循环抛光工况：配置精度1μm以下滤芯过滤，抛光液恒温控制在15-20℃，避免高温造成硅溶胶失效，延长抛光液使用寿命。

JZ-5214抛光垫

配套精抛垫，适配玻璃磁盘精抛工况，兼顾平面保形性与去除能力，配合JZ-S3020抛光液，协同实现超光滑无缺陷盘面。

四、总结

HDD玻璃磁盘是下一代硬盘存储的重要发展方向，超精密CMP抛光是盘片制造核心工序。吉致电子JZ-S3020抛光液搭配JZ-5214抛光垫整套耗材方案，经过完整工艺实验验证，可以实现Ra＜0.1nm无划伤石英玻璃磁盘表面，抛光速率满足30-60nm/min，可为HDD玻璃磁盘研发与量产提供成熟CMP耗材解决方案。

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