吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

吉致电子·无蜡吸附垫·半导体晶圆吸附垫·Template
产品名称：无蜡吸附垫/硅片吸附垫/芯片吸附垫/抛光吸盘Template/抛光模板/背附板
产品特点：用于半导体硅晶圆、碳化硅衬底、蓝宝石衬底、光学玻璃、精密陶瓷、硅片外延片、金属等产品的单面抛光，属于CMP抛光工艺的装置及耗材。[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/wlxfdtempl.html

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http://www.jzdz-wx.com/Products/thxjxpgycu.html

吉致电子·硅片抛光液·半导体晶圆cmp抛光液·Si Slurry
产品名称：硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点：用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛，减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtgppgysi.html

吉致电子·钼片抛光液·金属钼cmp抛光液
产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
产品特点：吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片CMP加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/jsmpgympcm.html

吉致电子·合金铜抛光液·金属抛光液
产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液
产品特点：适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/thjtbmpgyj.html

吉致电子·精密陶瓷件抛光液·半导体抛光液
产品名称：氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
产品特点：适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/jmtcpgycmp.html

吉致电子·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
产品特点：Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/sicthgcdym.html

吉致电子抛光垫
产品名称：碳化硅精抛垫/阻尼布抛光垫/绒面抛光垫
产品厚度：0.6mm-3mm（可定制）
产品直径：φ300-φ1300mm（可定制）
产品特点：Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/znbpgdthgj.html

吉致电子抛光垫
产品名称：碳化硅抛光垫/复合无纺布抛光垫
产品厚度：1.2mm-3mm（可定制）
开槽规格：10×10--20×20（可定制）
产品直径：φ300-φ1300mm（可定制）
产品特点：高平坦性、低缺陷性和高性价比[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/thgpgdfhwf.html

产品名称：手机Logo抛光液 金属抛光液 镜面CMP Slurry
磨料类型：专利化学配方/可定制
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/sjlogopgyj.html

产品名称：硬质合金抛光液/金属抛光液/CMP镜面抛光
磨料类型：专利化学配方/可定制
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/yzhjpgyjsp.html

产品名称：氧化层抛光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry
磨料类型：纳米SiO2
磨料粒径：纳米SiO2[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/wpgywcmpsl.html

产品名称：碳酸CMP研磨液/DNA芯片slurry/水凝胶抛光液
磨料类型：碳酸钙抛光液slurry
磨料粒径：碳酸钙微粉[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/tsgpgydnaj.html

产品名称：氧化层抛光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料类型：半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径：纳米级SiO2[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/yhcpgyoxid.html

产品名称：3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
磨料类型：半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/3dxjfztsvc.html

产品名称：磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/jypgylhyin.html

产品名称：铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtpgynsll.html

产品名称：蓝宝石抛光液/蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtpgylbsp.html

产品名称：陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/tcftbcmpym.html

产品名称：手机抛光液 金属抛光液 镜面抛光液 logo抛光液
磨料类型：专利化学配方/可定制
磨料粒径：专利化学配方/可定制[查看]

http://www.jzdz-wx.com/Products/jspgysjpgy.html