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客户感言

: DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

我司是做陶瓷覆铜板的，做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求，搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好，可以达到我司要求，为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品，我分享两张对比图如下：本文由无锡吉致电子科技原创，版权归无锡吉致电子科技，未经允许，不得转载，转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.co…
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: 解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

陶瓷基板厂家陈总感言： ——我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家，这些陶瓷板的硬度都是比较高的，我们对板子的RA表面粗糙度有要求，试过好多种抛光工艺，最终选择了CMP双面抛光机。项目开发期间我们咨询了很多厂家，也试了很多抛光液，总会出现各种问题，比如：粗糙度达不到、移除速率过慢…
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应用案例

: 吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光

不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。随着对镜面不锈钢表面质量要求的不断提高，同时为了提高抛光效率，新型不锈钢抛光工艺----CMP化学机械抛光被广泛应用。吉致电子针对不锈钢表面镜面处理，配制组成的CMP抛光液，通过化学溶液提高不锈钢表面活性，同时进行高速的机械抛光，用来消除…
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: 氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光

氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度，原因有两个，一是氧化铝材质硬度较高，难以研磨。其二，氧化铝陶瓷表面吸光性较强，普通抛光难以达到镜面效果。这就使得氧化铝陶瓷抛光的难度无限扩大，针对这些加工难点，吉致电子已经具备成熟的抛光工艺和产品，有完善的氧化铝陶瓷抛光方案。客户的氧化铝陶瓷片，要求做镜面加工…
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吉致动态

: Template无蜡吸附垫在半导体CMP中的应用

[ 2025-04-23 ] 钼衬底的应用领域及CMP抛光技术解析
[ 2025-04-22 ] 先进半导体制造中的CMP Slurry：铜/钨/碳化硅抛光液技术与国产化进展
[ 2025-04-18 ] 吉致电子LED蓝宝石衬底研磨抛光CMP工艺方案
[ 2025-04-17 ] 吉致电子TSV铜化学机械抛光液：助力3D先进封装技术突破
[ 2025-04-11 ] 蓝宝石衬底CMP抛光新视野：氧化铝与氧化硅的多元应用
[ 2025-04-02 ] 氧化铝悬浮液在化学机械抛光（CMP）中的应用与优化

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行业资讯

: 吉致电子：钨CMP抛光液组成与应用解析

[ 2025-04-10 ] 【国产替代新选择】吉致电子IC1000级抛光垫——打破垄断，助力中国“芯”制造！
[ 2025-04-09 ] 吉致电子：高稳定聚氨酯抛光垫定制专家
[ 2025-04-08 ] 芯片抛光液（CMP Slurry）：半导体平坦化的核心驱动力
[ 2025-04-01 ] 金刚石研磨液在CMP工艺中的应用与优势
[ 2025-03-28 ] 陶瓷基板CMP工艺：无蜡吸附垫技术解析与应用优势
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