吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

怎么提高氧化铈抛光液的稳定性？

怎么提高氧化铈抛光液的稳定性？氧化铈抛光液主要用于玻璃、蓝宝石、光学及异形工件的抛磨，液体的分散悬浮状态决定抛光液的使用效果和抛磨效率。磨料比重较大的话容易沉底，同时出现团聚现象会极大影响抛光效果，甚至损坏抛光设备。吉致电子氧化铈抛光液的分散性、悬浮稳定性，主要与以下几个方面相关：1.分散剂种类，添加量；2.氧化铈抛光液的PH值；3.氧化铈抛光液的介质；注意这3点然后调整配方相信能获得稳定性佳的抛光液产品。吉致电子氧化铈抛光液由优质氧化铈微粉制备而成，纯度高，氧化铈含量高，配方分散性好、乳液均匀悬浮性佳。切削能力强

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吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些？

  抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。  硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺（如水解法）生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光，如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。  金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分，高分散配方，硬度高韧性好，有良好的高切削率，不易

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抛光液对人有危害吗？

  抛光液是用于精密、超精密加工（比如半导体晶圆）的CMP耗材，是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂。抛光液成分是由抛光粉磨料加上水基或油基的底液制备而成的悬浮液。里面除了有微米级和纳米级的磨料，还有一些辅助添加剂比如活性剂、分散剂、氧化剂等等。  根据抛磨工件材质不同抛光液往往呈现一定的酸性或碱性，酸碱度是用于软化工件表面以加速磨削，减少对工件的冲击划伤，对人的皮肤有轻微腐蚀性，工作时可戴上防腐手套，防腐衣服等做好防护工作。不过随着技术进步和配液方式改进，中性PH的抛光液产品也越来越多

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吉致电子--抛光液可以自己调配吗？

 解答一下最近很多客户会问到的问题：抛光液可以自己调配吗？ 答案是：不可以  很多客户对CMP抛光液的误解是抛光粉加上液体就能得到抛光液成品了，这是个误区哦。虽然客户收到的抛光液是瓶装或桶装的液体形态，但是这是经过科学配比和特殊工艺制备而成的。不同材质工件抛磨会用到不同的微粉磨料组合，配液也分水基和油基2种。抛光剂在配液的过程中要用到特定设备进行操作，如温度测量仪，PH检测仪，天秤称这些都是基本的生产设备，还要经过高速搅拌，均质等。  很多非正规渠道生产商用到手工方法进行配液

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CMP抛光液的抛光磨料有哪些？

CMP抛光液的抛光磨料有哪些？抛光液中常用的抛光磨料种类可分为天然磨料和人造磨料。1.天然磨料:自然界中所有可用于研磨或磨削的材料统称为天然磨料。常用的天然磨料如下:金刚石、天然刚玉、石榴石和石英。2.人造磨料:人造磨料分为刚玉系列、碳化物系列、硬质系列。刚玉系人造磨料：包括棕刚玉、白刚玉、锆刚玉、微晶刚玉、单晶刚玉、铬刚玉、镨钕刚玉、黑刚玉和矾土烧结刚玉。碳化硅系人造磨料:碳化硅、铈碳化硅、碳化硼、碳硅硼。硬质人造磨料系列:金刚石（人造钻石）和立方氮化硼。随着科学技术的发展，人造磨料品种已达几十种，天然磨料由于自

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温度对CMP抛光的影响有哪些

  化学机械抛光(CMP)中，抛光垫大面积接触工件，提高了一致性和抛磨效率，然而在抛光过程中，抛光垫也会不断地磨损和消耗，各种因素都会影响抛光垫的性能和使用寿命，其中直接的因素就是温度。  在化学机械抛光过程中，抛光垫的温度通常会在两种情况下升高。一个是固体和固体之间的物理摩擦接触。摩擦力引起的温度上升可能导致抛光垫的局部温度上升到30℃。当抛光在液压释放模式下进行时，热量释放将被释放。另一种是抛光液和抛光垫之间的化学反应释放的热量引起的温度升高。当抛光垫的温度超过一定限度时，抛光垫的聚氨酯材料

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铝合金抛光液配方是什么

  铝合金抛光液配方是什么？铝材镜面抛光用什么研磨液呢？  铝材硬度相对来说较软，软质金属是不建议用金刚研进行抛磨的，表面会造成很大的刮痕。那么铝合金抛光用什么抛光液呢？铝材工件镜面抛光一般有粗抛和精抛两次抛光步骤。当然铝合金抛光液的配液方法在行业中难度较大，对工件镜面要求非常高的企业比如富士康，还是依赖日本进口抛光液产品，价格非常昂贵。  随着国内CMP技术发展和不断研发，正逐步缩小与国际技术的差距，吉致电子铝合金抛光剂以分级后的磨料微粉为原料，颗粒经表面改性处理，按特殊化学配方充分

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不锈钢抛光液配方

  不锈钢工件一般硬度较高，大概在35-50度左右，常见的主要有304不锈钢、316不锈钢等。就不锈钢抛光液而言，在抛光过程中，除了注重最终的镜面效果，还需要提高生产效率。  那么不锈钢抛光液配方是什么？或者怎么搭配才能更好的提高不锈钢件的速度？其实对于硬质金属，我们一般用金刚石做磨料，调配相应的比例。金刚石研磨液可做粗磨液，其优点是去除率高，磨削速度快。在抛磨工件的时候，客户对金刚石微粉放量较少，这种操作是错误的。金刚石粉用量太少会导致磨削力不足。重要的是不锈钢粗磨液一般要求比较稠，这样抛磨的

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CMP抛光液的流速快慢会有什么影响？

  CMP抛光液的流速快慢会有什么影响？今天，吉致电子小编就给大家解释一下抛光液流动性的影响。  现代芯片制造领域有两种相互矛盾的趋势:待加工的工件尺寸越来越大，但要求的加工精度却越来越高。比如下一代集成电路中的晶圆直径要大于300mm，但表面粗糙度和波纹度要小于几埃，下一代磁盘的划痕深度和粗糙度要≤1nm和≤0.1nm，因此有必要对材料进行分子去除。  抛光液中所含的化学物质与晶片表面或亚表面相互作用，形成软化层或弱结合，或在晶片表面产生钝化反应，使材料被平滑均匀地去除，

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CMP抛光技术在半导体和蓝宝石工件中的应用

蓝宝石衬底抛光用什么工艺可以实现？LED芯片又是怎么实现表面抛光平整的？吉致电子抛光液小编带您了解！目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和大规模

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精密工件的抛光方式有哪些？

抛光技术是使工件表面成为光滑镜面的精密加工技术，其目的是使工件的表面粗糙度(RA值)和平整度达到一定的允许范围。抛光不仅增加了工件的美观，而且改善了材料表面的性能，延长了工件的使用寿命。目前常用的抛光（(Polishing)）方法有：(1)机械抛光，通过切削和材料表面的塑性变形来去除工件表面突出部分的光滑抛光方法。(2)电化学抛光，是一种基于电解溶解原理去除金属的抛光方法。(3)流体抛光，是利用高速流动的液体及其磨粒冲刷工件表面，达到抛光的目的。(4)磁流变抛光(Magnetorheological Finishi

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研磨液的作用是什么？

  研磨液通常由表面活性剂、PH调节剂、分散剂、螯合剂等组分组成，各组发挥不同的作用。通过化学原理对工件表面进行化学腐蚀，然后在研磨液中高速运动的磨料对工件表面的磨削及挤压等综合作用下，实现对工件表面的抛磨加工。研磨液具体作用可以归纳为5点，吉致电子小编给您介绍一下吉致研磨液的作用。吉致电子研磨液被搅拌均匀后，少量滴入研磨盘内部，在研磨抛光过程时抛光液会粘附在工件与合成磨盘的表面，其作用如下：①研磨液具有软化作用：即对金属表面氧化膜的化学作用，使其软化，易于从表面研磨除去，以提高研磨效率。②研磨液具有防锈

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氧化硅抛光液颜色的区别

吉致电子氧化硅抛光液的颜色有白色、乳白色和浅蓝色。硅溶胶抛光液颜色不同，其二氧化硅含量和用途也不一样。一般来说，二氧化硅抛光液颜色越蓝，浓度越高，粒度越细。浓度降低颜色就会变白，但是含量过低也会变白，这个要做浓度测试才能判断。二氧化硅抛光液的颜色不同，抛光工件的类型和粒度也不同。一般铸造铝合金的液态二氧化硅是蓝色的，且蓝色比较透明，这样的氧化硅粒径较小，因为铝合金镜面的光泽度要求更高。一般来说，工件光泽度要求越高，抛光耗材的粒度越小，这就决定了铝合金抛光液粒度要达纳米级别的原因。抛光不锈钢金属的氧化硅溶液一般为乳白

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单晶金刚石与多晶金刚石抛光液的区别

  金刚石抛光液一般分为单晶和多晶（聚晶），都是不规则多面体块状颗粒，制备方式不同抛磨的工件和效果也不同。  单晶金刚石抛光液分散性好，尖角利用率较高，硬度高。在研磨过程中可提 供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率，更适合磁头、超硬合金、碳化硅、陶瓷等硬质材料。  聚晶金刚石颗粒结构与天然金刚石极为相似，有更多的晶棱和磨削面，有效减少抛光时间。抛磨后工件表面更加柔和，有效减少变形，且用量相对较少。对基材表面要求较高的工件更适合使用聚晶金刚石抛光液。  当然，在实

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吉致电子---金刚石抛光液的作用是什么？

钻石抛光液又叫金刚石抛光液，由人造金刚石微粉通过特殊工艺制备而成，由于其切削力强，速率快，划痕少，所以广泛应用于硬质工件的抛磨和加工，下面就由吉致电子小编給大家详细介绍一下吉致钻石抛光液的特点和使用吧。金刚石抛光液包括多晶、单晶和纳米抛光液。金刚石抛光液由优质金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样，对应不同的研磨抛光工艺和工件，适用性强。吉致的金刚石研磨液产品分散性好，粒度均匀，规格齐全，质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨抛光。聚晶金刚石抛光液（又叫多晶钻石抛光液）利用聚晶金刚石的特性，在磨削抛光过程中能保持

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吉致电子---研磨液的4个功能

研磨液属于抛光液、磨削液的一种，在加工过程中主要有四个特点，下面由吉致电子小编给大家介绍一下吧!1.研磨液具有润滑能力。“润滑”主要指渗入工件的研磨液与磨屑之间形成的润滑膜。这种薄膜可以减少摩擦，增加砂轮的耐久性，有效防止工件表面粗糙度恶化。2.研磨液具有冷却能力。在磨抛工件时，研磨液能迅速吸收加工时产生的热量，降低其温度，保持工件表面精度，防止工件表面完整性恶化，保证磨粒的自锐效果。磨削液流量越大，其冷却能力越高，工件表面温度越低。3.研磨液具有防锈功能。正确使用研磨液可确保工件和机台不会

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CMP抛光液在航天材料中的运用

北京时间2022年6月5日10时44分，搭载神舟十四号载人飞船的长征二号F遥十四运载火箭在酒泉卫星发射中心点火发射，577秒后与火箭分离成功，神舟十四号进入预定轨道，发射取的圆满成功。这是中国航天事业的又一伟大征程，看了全程直播的吉致电子科技小编感到热血沸腾，让我们致敬中国航天人，致敬中国航天事业。中国航天事业的蓬勃发展，离不开科技的进步和材料的迭代更新。在航天材料的运用上，高性能的叶片材料，高效能的陶瓷制件，高精密的仪器零件和航天金属材料都要耐得住高温低温的考验。制备这些高科技航天材料，抛光磨削的步骤与抛光液有着

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喜迎“六一”欢度“端午”----吉致电子员工团建活动

      春光无限好，正是活动时！6月即将迎来“端午佳节”，吉致电子科技有限公司为了让大家在繁忙的工作中放松心情、愉悦身心，特别组织了一场办公室团建活动，让大家释放工作压力，再燃工作斗志，提高团队凝聚力和战斗力。      活动日恰逢“六一”儿童节，过期的大儿童们也要来凑热闹！公司贴心地准备了很多精美礼物，策划了非常有趣的团建小游戏：敲冰企鹅，谁是卧底，气球运杯子。  吉致电子的CMP抛光液研发工

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资讯第152期：磷化铟抛光 助力我国5G芯片发展

我司技术人员研发推出了磷化铟抛光垫和抛光液，该款产品速率高、平整度高、光洁度好。速率可以达到2um/min，粗糙度5nm以下，实现了高速率优粗糙度的特点。

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吉致资讯第151期：生活中离不开的“滤波器”

吉致资讯第151期：生活中离不开的“滤波器” 我们生活中离不开一样潜在的东西，那就是滤波器，我们不管是wifi、蓝牙、手机的2g/3g/4g/5g等的信号发射和接受都需要滤波器，一台小小的手机就需要数十个滤波器的元器件，而滤波器的主要性能就是性能，而平坦度直接影响其性能，所以在生产滤波器的过程中会进行CMP化学机械抛光，其需要用到抛光液slurry，目前这一耗材长期受国外“卡脖子”，国外企业说断供就断供，而目前国内无锡吉致电子科技有限公司聘请国外留学归来博士

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