金刚石抛光液,金刚石研磨液,氧化硅抛光液,抛光垫

磨料在CMP抛光液中的作用

抛光磨料是CMP抛光液中的主要成分，在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面，达到机械去除材料的作用。抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液，混合磨料抛光液，复合磨料抛光液磨料在CMP抛光过程中起到的作用为：（1）机械作用的实施者，起机械磨削作用；（2）传输物料的功能，不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间，还将反应物带离材料表面，使得材料新生表面露出，进一步反应去除。所以选择抛光液时记得考虑分散性好，流动性好，硬度适中，易于清洗的抛光液产品，有相关问题

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吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些？

吉致电子研发的抛光液产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘、面板显示器等材质表面的深度处理。吉致电子CMP抛光耗材产品可广泛应用于各种CMP领域，包括Lapping机台、五轴机台、单面抛光机、双面抛光机等其他研磨抛光机台设备。抛光液升级配方可用于半导体行业硅片硅衬底减薄、碳化硅衬底抛光、蓝宝石衬底抛光。针对性更强的抛光液产品如阻挡层化学机械抛光液，钨化学机械抛光液以及介质层化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液、用于3D封装TSV化学机械抛光液可详细咨询。抛光液的特点是不伤

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吉致电子硅溶胶抛光液的适用范围

硅溶胶抛光液又称氧化硅抛光液，通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经过钝化添加化学助剂和特殊工艺配制成的二氧化硅抛光浆料，广泛应用于集成电路半导体、特殊材料、金属工件、脆硬镜面的抛光。吉致电子25年CMP抛光液生产厂家，可根据客户不同工艺要求定制调整抛光浆料。氧化硅抛光液主要适用范围:1.可用于玻璃陶瓷的表面抛光。2.用于硅片和IC加工的粗抛和精抛，适用于大规模集成电路多层膜的平坦化。3.用于半导体元件的加工，如晶圆后道CMP清洗、光导摄像管、多晶化模块、平板显示器、微电机系统等。4.广泛应用于CMP化

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吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:1，可提高工件抛光速率和平坦度加工质量，氧化硅抛光液采用高纯纳米二氧化硅（SiO2）磨料及多种复合材料配置而成，不会对工件造成物理损伤，抛光率高。2，利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。3，硅溶胶纯度高，抛光液不腐蚀设备，无毒无害使用安全性能高。4，可实现高平坦化加工。5，有效减少抛光后的表面划痕，降低表面粗糙度。吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒，得到均匀分散的纳米抛光液，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP技术用的

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不锈钢抛光液如何达到镜面效果

在金属表面处理过程中，不锈钢平面抛光达到镜面效果是最常见的要求，要求也各不相同。如果想达到高质量的抛光效果，最重要的是要有专业的平面磨抛机、优质抛光耗材（抛光液、抛光垫）和相应的配套抛光方案，以及熟练的操作人员。不锈钢抛光程序取决于工件毛坯的粗糙度，如机加工，电火花，磨削，铸造等产生的凹坑、毛刺、划痕、麻点等问题。吉致电子小编带您了解一下什么是不锈钢镜面抛光。要达到不锈钢工件抛光的镜面效果，一般分为粗抛、中抛、精抛三个步骤。粗抛:又叫“开粗”，主要是通过研磨抛光机

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蓝宝石抛光液如何选？

随着科技的发展和迭代，3C科技产品对玻璃面板的要求越来越高，需要硬度更高且不容易划伤的玻璃，因此蓝宝石材质的应用和需求越来越广泛，如手机蓝宝石屏幕、蓝宝石摄像头、蓝宝石手表等。蓝宝石的特点是硬度高，脆性大，所以加工难度也大。因此，很有必要研究并升级CMP抛光工艺在蓝宝石窗口上的应用。目前国内批量生产蓝宝石衬底的技术还不成熟，切割出来的蓝宝石晶片有很深的加工痕迹，抛光后容易形成麻点或划痕。在蓝宝石衬底的生产中，裂纹和崩边的情况比较高，占总数的5%-8%。抛光过程中影响抛光质量的因素很多，如

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什么是金刚石研磨液

金刚石研磨液由人造钻石磨粒分散于水基或油基液体中制备而成，是一种具有优良CMP抛光功效的抛光悬浮液，可用于硅片、硬质合金、高密度陶瓷、蓝宝石衬底体、精密光学元件、LED液晶面板等领域的抛光研磨。抛光液所含微粒是研磨液机械作用的关键因素，不同种类、不同粒度的磨料抛光去除效果不同，适合于不同的加工要求。一般来讲金刚石磨料硬度越高、粒径越大，磨削效率越高、加工表面光洁度越低；相反金刚石磨料硬度越低、粒径越小，其磨削效率越低、加工表面光洁度越高。可根据工件参数选择不同型号和粒径的金刚石研磨液进行

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镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用

镜面抛光液的主要材料是纳米二氧化硅磨料，制备成的液体浆料也称为硅溶胶抛光液。二氧化硅抛光液主要适用于抛光蓝宝石衬底、硅片、半导体、精密电子工件、晶体等产品。二氧化硅抛光浆料主要利用硅胶离子的高速抛光来达到表面处理的效果。二氧化硅是用纳米技术制成的。根据工件抛磨要求，可制备出不同切削力的产品达到镜面抛光。粒度控制可以有效减少电子工件上的污垢，使用纳米级硅胶颗粒加工工件，不会损伤工件，同时还能达到理想效果氧化硅抛光液需要配合精抛垫使用，精抛垫的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的众多孔隙可以将抛光液均匀地粘在其表面，与工件一起研

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氧化硅抛光液的结晶问题

氧化硅抛光液长时间暴露在空气中，会使水分蒸发剩下固体氧化硅，造成硅晶体析出现象，称之为结晶。在实际应用时，硅溶胶抛光液会一直在磨盘内旋转循环及流动，结晶现象较少，但是高温或抛光液浓度没有配置好，会造成团聚，损伤工件，影响抛光效果。根据二氧化硅的特性，吉致电子抛光液厂家开发了抗结晶纳米二氧化硅抛光液，可以长时间保持氧化硅稳定液体状态。抛磨工件时易摇散且不团聚，化学性能稳定分散均匀，氧化硅精抛液抛光效率高，能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。外需要注意的是，氧化硅抛光液的

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金刚石研磨液/抛光液的特点

在研磨抛光过程中有四个基本要素:工件、研磨液、研磨抛光盘和研磨条件。金刚石研磨液/抛光液是随着我国电子工业的发展而迅速发展起来的一种液体抛光材料。主要用于加工陶瓷材料、硅片、硬质合金等的自动研磨抛光机。金刚石液体研磨/抛光液基本有三种形式:水基、油基和和乳化液。水基/油基金刚石研磨液因其易清洗、易污染、使用方便，已广泛应用于自动磨削/抛光机中。一般金刚石研磨液使用的金刚石微粉有两种：多晶金刚石（聚晶金刚）和单晶金刚石微粉。金刚石粒度为0.25～40μm，常用规格为1～6μm。加入的金刚石微粉粒度不同，制备成不同规

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吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用

氧化硅抛光液的主要成分是高纯二氧化硅粉为，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光液。氧化硅溶液其实就是市面上的硅溶胶，当然是二次加工后的硅溶胶。因为硅溶胶是胶状的，不能直接研磨抛光。这项技术的主要应用是CMP半导体抛光。该技术在相对早期阶段就已存在，但市场应用范围较窄。氧化硅外观为乳白色悬浮液，呈碱性、中性、酸性。一般时间长了不会有沉淀，但是暴露在空气中很快就会结晶，有一定的腐蚀性。不锈钢工件在二氧化硅环境中容易生锈，抛光工件时应及时清洗掉二氧化硅溶液。&n

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怎么提高氧化铈抛光液的稳定性？

怎么提高氧化铈抛光液的稳定性？氧化铈抛光液主要用于玻璃、蓝宝石、光学及异形工件的抛磨，液体的分散悬浮状态决定抛光液的使用效果和抛磨效率。磨料比重较大的话容易沉底，同时出现团聚现象会极大影响抛光效果，甚至损坏抛光设备。吉致电子氧化铈抛光液的分散性、悬浮稳定性，主要与以下几个方面相关：1.分散剂种类，添加量；2.氧化铈抛光液的PH值；3.氧化铈抛光液的介质；注意这3点然后调整配方相信能获得稳定性佳的抛光液产品。吉致电子氧化铈抛光液由优质氧化铈微粉制备而成，纯度高，氧化铈含量高，配方分散性好、乳液均匀悬浮性佳。切削能力强

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吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些？

抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺（如水解法）生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光，如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分，高分散配方，硬度高韧性好，有良好的高切削率，不易

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抛光液对人有危害吗？

抛光液是用于精密、超精密加工（比如半导体晶圆）的CMP耗材，是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂。抛光液成分是由抛光粉磨料加上水基或油基的底液制备而成的悬浮液。里面除了有微米级和纳米级的磨料，还有一些辅助添加剂比如活性剂、分散剂、氧化剂等等。根据抛磨工件材质不同抛光液往往呈现一定的酸性或碱性，酸碱度是用于软化工件表面以加速磨削，减少对工件的冲击划伤，对人的皮肤有轻微腐蚀性，工作时可戴上防腐手套，防腐衣服等做好防护工作。不过随着技术进步和配液方式改进，中性PH的抛光液产品也越来越多

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吉致电子--抛光液可以自己调配吗？

解答一下最近很多客户会问到的问题：抛光液可以自己调配吗？答案是：不可以很多客户对CMP抛光液的误解是抛光粉加上液体就能得到抛光液成品了，这是个误区哦。虽然客户收到的抛光液是瓶装或桶装的液体形态，但是这是经过科学配比和特殊工艺制备而成的。不同材质工件抛磨会用到不同的微粉磨料组合，配液也分水基和油基2种。抛光剂在配液的过程中要用到特定设备进行操作，如温度测量仪，PH检测仪，天秤称这些都是基本的生产设备，还要经过高速搅拌，均质等。很多非正规渠道生产商用到手工方法进行配液

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CMP抛光液的抛光磨料有哪些？

CMP抛光液的抛光磨料有哪些？抛光液中常用的抛光磨料种类可分为天然磨料和人造磨料。1.天然磨料:自然界中所有可用于研磨或磨削的材料统称为天然磨料。常用的天然磨料如下:金刚石、天然刚玉、石榴石和石英。2.人造磨料:人造磨料分为刚玉系列、碳化物系列、硬质系列。刚玉系人造磨料：包括棕刚玉、白刚玉、锆刚玉、微晶刚玉、单晶刚玉、铬刚玉、镨钕刚玉、黑刚玉和矾土烧结刚玉。碳化硅系人造磨料:碳化硅、铈碳化硅、碳化硼、碳硅硼。硬质人造磨料系列:金刚石（人造钻石）和立方氮化硼。随着科学技术的发展，人造磨料品种已达几十种，天然磨料由于自

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